[发明专利]控制治疗剂从可植入装置释放的速度的方法

权利要求书

1.一种控制治疗剂从可植入装置释放的速度的方法，所述方法包括：

提供所述装置，所述装置包含：

容器，其配置用于植入且具有储库；

治疗剂的流体制剂，其包含于所述储库内且具有pH；

具有多个孔的纳米多孔膜，其附于所述容器并提供所述治疗剂释放出所述储库的扩散路径；

其中治疗剂通过多孔膜的释放速度取决于制剂的pH；和

选择所述制剂的pH，所述pH的水平适合实现想要的治疗剂释放的速度。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述纳米多孔膜是二氧化钛纳米多孔膜。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述治疗剂是肽或蛋白质。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述肽或蛋白质是肠促胰岛素模拟物。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述肠促胰岛素模拟物是艾塞那肽。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其中所述治疗剂是艾塞那肽，且其中所述纳米多孔膜是二氧化钛纳米多孔膜，且其中所述pH是4.0-6.5。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中所述治疗剂是艾塞那肽，且其中所述纳米多孔膜是二氧化钛纳米多孔膜，且其中所述pH是4.5-6.0。

8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，所述装置还包含不溶性聚合物稳定剂。

9.如权利要求8所述的方法，其中所述不溶性聚合物稳定剂包含丙烯酸、甲基丙烯酸或两者的单体单元。

10.一种控制具有等电点的治疗剂从可植入装置释放的速度的方法，所述方法包括：

提供所述装置，所述装置包含：

容器，其配置用于植入且具有储库；

治疗剂的流体制剂，其包含于所述容器内且具有pH；

具有多个孔的纳米多孔膜，其附于所述容器并提供所述治疗剂释放出所述储库的扩散路径，所述纳米多孔膜具有纳米孔，所述纳米孔具有内表面，所述内表面具有等电点；

其中所述释放的速度由所述治疗剂与纳米孔的内表面之间的电荷相似性程度决定；和

选择所述制剂的pH以实现想要的电荷相似性程度。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述纳米多孔膜是二氧化钛纳米多孔膜。

12.如权利要求10或11所述的方法，其中所述治疗剂是肽或蛋白质。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述肽或蛋白质是肠促胰岛素模拟物。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述肠促胰岛素模拟物是艾塞那肽。

15.如权利要求10所述的方法，其中所述治疗剂是艾塞那肽，且其中所述纳米多孔膜是二氧化钛纳米多孔膜，且其中所述pH是4.0-6.5。

16.如权利要求10所述的方法，其中所述治疗剂是艾塞那肽，且其中所述纳米多孔膜是二氧化钛纳米多孔膜，且其中所述pH是4.5-6.0。

17.如权利要求10所述的方法，所述装置还包含不溶性聚合物稳定剂。

18.如权利要求17所述的方法，其中所述不溶性聚合物稳定剂包含丙烯酸、甲基丙烯酸或两者的单体单元。