[发明专利]在表盘上形成三维物体的方法

说明书

本发明涉及一种用于在表盘和/或表圈上形成三维物体(220)的沉积方法(500)。该沉积方法(500)至少包括提供(510)至少一个支承件(210)和沉积(520)附着层(120)的步骤。界定(530)所述物体(220)的轮廓(229)，以便能够通过沉积多个聚合物层(130)来形成(540)腔室(225)，使得通过利用沉积(520)至少一个饰面层(140)填充(550)所述腔室(225)来形成所述物体(220)。

技术领域

本发明涉及一种用于形成物体的方法。更具体地，本发明涉及一种用于沉积层以形成用于手表表盘的三维物体的方法。

背景技术

现有技术中存在多种用于在衬底上产生图案的技术。然而，这些技术不允许产生包括底切部的物体。

更具体地，当前的方法使用定向光束来产生图案，图案的截面，即图案的横截面，是矩形的或多边形类型的，例如梯形或菱形。

使用这些当前方法目前无法实现更复杂的形状；例如，无法创建圆形轮廓或曲面。

发明内容

本发明提出通过提供一种用于形成物体、优选地用于手表的物体的沉积方法来完全或部分地克服这些缺点；所述物体包括周界(périmètre)、至少一个第一表面和/或体积；所述沉积方法包括以下步骤中的至少一个：

-提供包括至少一个接纳表面的至少一个支承件；

-在所述至少一个接纳表面上沉积附着层；

-在所沉积的附着层上界定轮廓；所述轮廓对应于所述物体的所述周界、所述至少一个第一表面和/或所述体积；

-通过在所述附着层上沉积多个聚合物层，使得所述附着层的与所述物体的所述周界、所述至少一个第一表面和/或所述体积相当的部分是相对的、优选是自由的，来沿着所述轮廓形成腔室；

-通过在所述附着层的所述相对的、优选自由的部分上沉积至少一个饰面层(couche de finition)来填充所述腔室；以及

-对所述多个聚合物层和所沉积的附着层进行表面处理，以便暴露所述支承件的所述至少一个接纳表面。

由于这种设想，可创建具有复杂形状如圆形轮廓或曲面的物体。

根据一个实施例，所述物体包括比所述至少一个第一表面更弯曲的至少一个第二表面。

由于这种设想，可创建具有复杂形状如曲面的物体。

根据一个实施例，所述腔室是沿着所述物体的中线形成的和/或所述轮廓是沿着所述物体的中线形成的。

根据一个实施例，所述中线与所述至少一个接纳表面形成一定角度。

根据一个实施例，所述物体在所述多个聚合物层中形成底切部(contre-dépouille)或者所述物体包括底切部(224)。

由于任何上述设想，可创建具有底切部的复杂形状的物体。

根据一个实施例，所述腔室是通过增材制造形成的。

由于任何上述设想，可创建具有底切部的复杂形状的物体。

根据一个实施例，所述附着层包含选自Au、Cu、Ag、In、Pt、Pd、Ni、Ti、Ta、Cr、Th或这些材料的合金中的至少一种材料。

根据一个实施例，所述至少一个饰面层包含选自这些材料或这些材料的合金中的至少一种材料。

由于这些材料，可通过增材制造来产生复杂的形状。

根据一个实施例，所述表面处理通过酸洗和/或剥离(stripage)来执行。