[发明专利]在表盘上形成三维物体的方法

权利要求书

1.一种用于形成优选地用于手表的物体(220)的沉积方法(500)；所述物体(220)包括周界、至少一个第一表面(221)和/或体积；所述沉积方法(500)包括以下步骤中的至少一个：

-提供(510)包括至少一个接纳表面(211)的至少一个支承件(210)；

-在所述至少一个接纳表面(211)上沉积(520)附着层(120)；

-在所沉积的附着层(120)上界定(530)轮廓(229)；所述轮廓(229)对应于所述物体(220)的所述周界、所述至少一个第一表面(221)和/或所述体积；

-通过在所述附着层(120)上沉积多个聚合物层(130)，使得所述附着层(120)的与所述物体(220)的所述周界、所述至少一个第一表面(221)和/或所述体积相当的部分是相对的、优选是自由的，来沿着所述轮廓(229)形成(540)腔室(225)；

-通过在所述附着层(120)的所述相对的、优选自由的部分上沉积(520)至少一个饰面层(140)，来填充(550)所述腔室(225)；以及

-对所述多个聚合物层(130)和所沉积的附着层(120)进行表面处理(560)，以暴露所述支承件(210)的所述至少一个接纳表面(211)。

2.根据权利要求1所述的沉积方法(500)，其中，所述物体(220)包括至少一个第二表面(222)，所述至少一个第二表面(222)比所述至少一个第一表面(221)更弯曲。

3.根据权利要求1或2所述的沉积方法(500)，其中，沿着所述物体(220)的中线(223)形成所述腔室(225)和/或沿着所述物体(220)的中线(223)形成所述轮廓(229)。

4.根据权利要求3所述的沉积方法(500)，其中，所述中线(223)与所述至少一个接纳表面(211)形成一定角度。

5.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，所述物体(220)在所述多个聚合物层(130)中形成底切部(224)或者所述物体(220)包括底切部(224)。

6.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，通过增材制造形成(540)所述腔室(225)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，所述附着层(120)包含选自Au、Cu、Ag、In、Pt Pd Ni、Ti、Ta、Cr、Th或这些材料的合金中的至少一种材料。

8.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，所述至少一个饰面层(140)包含选自Au、Pt、Ag、Cr、Pd或这些材料的合金中的至少一种材料。

9.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，所述表面处理(560)通过酸洗和/或剥离来执行。

10.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，所述支承件(210)由陶瓷制成。

11.根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)，其中，所述附着层(120)的所述沉积(520)是在与所述至少一个接纳表面(211)接触的情况下进行的。

12.一种手表，该手表包括至少一个支承件(210)和根据前述权利要求中任一项所述的沉积方法(500)生产的物体(220)。

13.根据权利要求12所述的手表，其中，所述至少一个支承件(210)是表盘或表圈。