[发明专利]用于抛光液体传输臂的清洁系统

说明书

一种抛光组件，包括用以支撑抛光垫的能够旋转的工作台；抛光液体传输臂，具有在底部处开启的围护件，和一个或更多个端口，以传输抛光液体和清洁流体向下通过围护件的内部空间至抛光垫上；以及传输臂清洁工具，可移除地附加至抛光液体传输臂，清洁工具在传输臂下方延伸，且具有面向传输臂的表面，被塑形使得清洁工具从抛光液体传输臂引导清洁流体至抛光液体传输臂的围护件的表面上。

技术领域

本公开内容涉及化学机械抛光，尤其涉及对将抛光液体传输到至抛光垫上的抛光液体传输臂的清洁。

背景技术

集成电路通常通过在硅晶片上依序沉积导电层、半导体层或绝缘层而形成于基板上。在制造集成电路期间的一个制造步骤是抛光填充层(filler layer)以暴露下面的绝缘层的顶部表面，例如，以形成在基板上的薄膜电路之间提供导电路径的过孔(via)、插塞及线。对于其他应用，例如氧化物抛光，平坦化填充层直到在非平坦表面上留下预定厚度为止。此外，基板表面的平坦化通常需要光刻。

化学机械抛光(CMP)是一种可接受的平坦化方法。此平坦化方法通常需要将基板固定在载具或抛光头上。基板的暴露的表面通常被放置抵靠旋转抛光垫。载具头提供可控的负载在基板上，以将该基板推挤抵靠抛光垫。抛光液体通常被抛光液体传输臂供应至抛光垫的表面。抛光液体传输臂亦可具有喷嘴，用以喷洒清洗流体至抛光垫上，以从抛光表面清除浆料或残骸。

发明内容

在一个方面中，一种抛光组件包括：用以支撑抛光垫的能够旋转的工作台；抛光液体传输臂，具有在底部开放的围护件(enclosure)和一个或多个端口，用以传输抛光液体和清洁流体向下通过该围护件的内部空间至该抛光垫上；和传输臂清洁工具，可移除地附加至该抛光液体传输臂，该清洁工具在该传输臂下方延伸，且具有面向传输臂的表面，该面向传输臂的表面被构形为使得该清洁工具把来自该抛光液体传输臂的该清洁流体引导至该抛光液体传输臂的该围护件的表面上。

在另一方面中，一种抛光液体传输臂清洁工具具有：传输臂清洁工具，包括面向臂的表面，该面向臂的表面被构形为用以将从抛光液体传输臂向下投射的清洁流体引导回到该抛光液体传输臂的围护件的内表面上；及保持耳片(retaining tab)，被构造为用以将该传输臂清洁工具固定至该抛光液体传输臂。

在另一方面中，一种抛光液体传输臂清洁工具包括：主体，被构造为用以可移除地固定至化学机械抛光系统的抛光液体传输臂；及插件，可移除地固定至该主体。该插件具有面向臂的表面，该面向臂的表面被构形为用以把来自该抛光液体传输臂的清洁流体引导回到该抛光液体传输臂的围护件的内表面。

在另一方面中，一种清洁抛光液体传输臂的方法包括：安装抛光液体传输臂清洁工具，以在抛光液体传输臂的围护件下方延伸；使清洁流体流动通过该抛光液体传输臂；及把来自该抛光液体传输臂的该清洁流体引导离开该清洁工具的表面回到该抛光液体传输臂的该围护件的表面。

各实施方案可选地可包括但不限于一个或多个以下优点。抛光品质可得以改善，例如，在抛光处理期间，由从抛光液体传输臂脱离的抛光浆料累积的干燥的研磨颗粒造成的刮擦及缺陷更少。此外，可降低归因于缺陷的报废的基板的数量。用于抛光系统的维护停机时间可显著减少。清洁处理的品质可得以改善，且在抛光液体传输臂上难以到达的地点可更易于得到清洁。这改善了抛光系统的生产率，并且减少了操作者的时间，因为把更少的时间专注于抛光液体传输臂清洁处理。清洁处理可通过调整清洁流体压强或清洁流体成分而得以迅速修改。

一个或更多个实施方案的细节在随附附图及以下说明中提及。其他方面、特征和优点将是从说明书和附图以及从权利要求显而易见的。

附图说明

图1A显示化学机械抛光系统的示意性截面图。

图1B显示安装在图1的化学机械抛光系统的抛光液体传输臂上的抛光液体传输臂清洁工具的示意性截面图。

图2显示安装在化学机械抛光系统的抛光液体传输臂上的抛光液体传输臂清洁工具的立体图。