[发明专利]分离膜的清洗方法

权利要求书

1.一种分离膜的清洗方法，其中，

包括：使在含硅排水的除浊中使用了的分离膜与含有水溶性氟化氢盐的溶液接触，

含硅排水的硅浓度为5mg/L以上且50mg/L以下，

分离膜为UF膜或MF膜。

2.如权利要求1所述的清洗方法，其中，

还包括：对在含硅排水的除浊中使用了的分离膜进行酸清洗和/或碱清洗。

3.一种分离膜的清洗方法，其中，

包括：对在含硅排水的除浊中使用了的分离膜进行酸清洗；

使经酸清洗的分离膜与含有水溶性氟化氢盐的溶液接触；以及

对与含有水溶性氟化氢盐的溶液接触了的分离膜进行碱清洗，

含硅排水的硅浓度为5mg/L以上且50mg/L以下，

分离膜为UF膜或MF膜。

4.一种分离膜的清洗方法，其中，

包括：对在含硅排水的除浊中使用了的分离膜进行酸清洗；

使经酸清洗的分离膜与含有水溶性氟化氢盐的溶液接触；

对与含有水溶性氟化氢盐的溶液接触了的分离膜进行碱清洗；以及

对经碱清洗的分离膜进行酸清洗，

含硅排水的硅浓度为5mg/L以上且50mg/L以下，

分离膜为UF膜或MF膜。

5.一种分离膜的清洗方法，其中，

包括：使在含硅排水的膜分离中使用了的分离膜与含有水溶性氟化氢盐的溶液接触。

6.如权利要求1～5中任一项所述的清洗方法，其中，

含有水溶性氟化氢盐的溶液中，水溶性氟化氢盐的浓度为1～10％且pH小于5。

7.如权利要求1～6中任一项所述的清洗方法，其中，

水溶性氟化氢盐为氟化铵。

8.一种含硅排水的处理方法，其中，

包括：使用分离膜对含硅排水进行膜分离或除浊；以及

以规定频率进行权利要求1～7中任一项所述的清洗方法。

9.一种含硅排水的处理方法，其中，

包括：向含硅排水中添加凝集剂以进行凝集处理；

使用分离膜对凝集处理后的含硅排水进行膜分离或除浊；以及

以规定频率进行权利要求1～7中任一项所述的清洗方法。

10.如权利要求9所述的方法，其中，

凝集处理前的含硅排水的硅浓度为5mg/L以上且50mg/L以下。