[发明专利]光学测定装置和光学测定方法在审

专利信息
申请号: 202180022995.X 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN115335699A 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 森田元喜;河野景吾;须须木大地;近藤房宣 申请(专利权)人: 积水医疗株式会社;浜松光子学株式会社
主分类号: G01N33/483 分类号: G01N33/483;G01N33/543;G01N21/27
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 测定 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种光学测定装置,其中,

包括:

测定部,其对侧流试验片的检测部照射测定光,并遍及规定的期间测定通过所述测定光的照射而从所述检测部得到的光;和

判断部,其基于由所述测定部得到的测定值和预先设定的第一阈值的比较,判断保持于所述侧流试验片的样本是阴性还是阳性,

所述判断部在所述样本向所述侧流试验片的保持后,在所述测定值超过所述第一阈值的情况下计算测定初期的测定值与测定后期的测定值之间的差分值,在所述差分值超过预先设定的第二阈值的情况下判断为所述样本是阳性,在所述差分值为所述第二阈值以下的情况下判断为所述样本是阴性。

2.如权利要求1所述的光学测定装置,其中,

所述第一阈值被设定成随着测定期间的经过而逐渐减小,

所述判断部在所述测定值超过所述第一阈值、且测定初期的测定值超过测定后期的所述第一阈值的情况下进行所述差分值的计算。

3.如权利要求1或2所述的光学测定装置,其中,

所述判断部在所述侧流试验片的反应结束时刻,在所述测定值超过所述第一阈值的情况下进行所述差分值的计算。

4.一种光学测定方法,其中,

包括:

测定步骤,其对侧流试验片的检测部照射测定光,并遍及规定的期间测定通过所述测定光的照射而从所述检测部得到的光;和

判断步骤,其基于由所述测定步骤得到的测定值和预先设定的第一阈值的比较,判断保持于所述侧流试验片的样本是阴性还是阳性,

在所述判断步骤中,在所述样本向所述侧流试验片的保持后,在所述测定值超过所述第一阈值的情况下计算测定初期的测定值与测定后期的测定值之间的差分值,在所述差分值超过预先设定的第二阈值的情况下判断为所述样本是阳性,在所述差分值为所述第二阈值以下的情况下判断为所述样本是阴性。

5.如权利要求4所述的光学测定方法,其中,

将所述第一阈值设定成随着测定期间的经过而逐渐减小,

在所述判断步骤中,在所述测定值超过所述第一阈值、且测定初期的测定值超过测定后期的所述第一阈值的情况下进行所述差分值的计算。

6.如权利要求4或5所述的光学测定方法,其中,

在所述判断步骤中,在所述侧流试验片的反应结束时刻,在所述测定值超过所述第一阈值的情况下进行所述差分值的计算。

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