[发明专利]喷涂喷嘴、喷嘴前端部及喷涂装置

说明书

本公开为实现减低膜的膜厚差的喷涂喷嘴。本公开是一种冷喷涂装置（100）的喷涂喷嘴（1），其包括：含有供膜材料及载气通过的第1通路（20）的喷嘴主体（15）；设于喷嘴主体（15）的前端部且含有与第1通路（20）连通的第2通路（21）的喷嘴前端部（16），该第2通路（21）在远离其截面中心（P）的位置扩宽。

技术领域

本发明涉及喷涂装置中使用的喷涂喷嘴、喷嘴前端部及包括该喷涂喷嘴的喷涂装置。

背景技术

以往的喷涂技术例如已知有冷喷涂。通常，冷喷涂中使用的喷涂喷嘴含有能够将高压气体从亚声速加速到超声速的拉瓦尔喷嘴结构（Laval nozzle）。且喷涂喷嘴含有圆形截面或矩形截面。上述以往的喷涂喷嘴例如由专利文献1公开。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2008-540115号公报（2008年11月20日公开）。

发明内容

发明要解决的技术问题

上述的以往技术有以下技术问题。

高压气体（流体）通过冷喷涂中以往使用的喷涂喷嘴内时，通过拉瓦尔喷嘴结构，流体会加速，流体能量会上升。流体能量在喷涂喷嘴截面的中央部最高，越靠近壁面越低。因此，对象物（基材等）上的膜在中央部厚，越往端部越薄。或者，若喷涂喷嘴截面的中央部的流体能量过高，也会有膜的中央部崩坏的情况。

这样，以往的喷涂喷嘴容易使得膜的膜厚不稳定。若膜的膜厚不稳定，则会产生膜特性（电特性、紧密接合性或硬度等）也变得不稳定这一技术问题。使用喷涂喷嘴的其他喷涂技术（气溶胶沉积等）也有同样的技术问题。

本发明有鉴于上述问题点，其目的在于实现能够减低膜的膜厚差的喷涂喷嘴、喷嘴前端部及喷涂装置。

解决技术问题的技术手段

为了解决上述技术问题，本公开一形态所涉及的喷涂喷嘴是在喷涂装置中使用的喷涂喷嘴，其包括：含有供膜材料及载气通过的第1通路的喷嘴主体；设于所述喷嘴主体的前端部且含有与所述第1通路连通的第2通路的喷嘴前端部，所述第2通路在远离其截面中心的位置扩宽。

为解决上述技术问题，本公开一形态所涉及的喷嘴前端部是设于喷涂装置的喷涂喷嘴的喷嘴前端部，其设于含有供膜材料及载气通过的第1通路的喷嘴主体的前端部、且含有与所述第1通路连通的第2通路，所述第2通路在远离其截面中心的位置扩宽。

发明效果

根据本公开一形态，能够减低膜的膜厚差。

附图说明

【图1】图示本实施方式所涉及的喷涂喷嘴的概略形状，左图为喷涂喷嘴的侧视图，右图为喷涂喷嘴的前端部；

【图2】本实施方式所涉及的冷喷涂装置的概略图；

【图3】图示本实施方式所涉及的第2通路的其他例；

【图4】本实施例所涉及的喷涂喷嘴的前端部的一例的照片；

【图5】用图4的本实施方式所涉及的喷涂喷嘴和以往的喷涂喷嘴比较膜的膜厚的图表。

具体实施方式

以下参照附图说明实施方式。在以下的说明中，对同一元件及构成要素附上同一编号。其名称及功能也相同。因此对其不重复详细说明。

本实施方式能够适用于所有喷涂装置（方法）。喷涂装置（方法）例如能列举出冷喷涂或气溶胶沉积等。在本实施方式中，以冷喷涂为例进行说明。

〔冷喷涂〕

近年，会利用一种被称作冷喷涂的膜形成法。冷喷涂是使得温度低于膜材料的熔点或软化温度的载气为高速流，向该载气流中投入膜材料并让其加速，在固相状态下，让其与基板等高速碰撞来形成膜的方法。

冷喷涂的膜原理如下理解。