[发明专利]喷涂喷嘴、喷嘴前端部及喷涂装置在审

专利信息
申请号: 202180019703.7 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN115210405A 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 平野正树 申请(专利权)人: 拓自达电线株式会社
主分类号: C23C24/04 分类号: C23C24/04
代理公司: 北京市安伦律师事务所 11339 代理人: 孙慧玲;郭扬
地址: 日本大阪府东*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 喷涂 喷嘴 前端 装置
【权利要求书】:

1.一种在喷涂装置中使用的喷涂喷嘴,所述喷涂喷嘴包括:

含有供膜材料及载气通过的第1通路的喷嘴主体;

设于所述喷嘴主体的前端部、且含有与所述第1通路连通的第2通路的喷嘴前端部,所述第2通路在远离其截面中心的位置扩宽。

2.根据权利要求1所述的喷涂喷嘴,其特征在于:

所述第1通路含有与所述第2通路的截面为相似形状的截面,且含有与所述第2通路的内面在同一平面的内面。

3.根据权利要求1或2所述的喷涂喷嘴,其特征在于:

所述第2通路大致为矩形。

4.根据权利要求1至3其中任意一项所述的喷涂喷嘴,其特征在于:

所述喷嘴前端部与所述喷嘴主体为一体。

5.根据权利要求1至4其中任意一项所述的喷涂喷嘴,其特征在于:

所述喷嘴前端部能够相对于所述喷嘴主体装卸。

6.根据权利要求1至5其中任意一项所述的喷涂喷嘴,其特征在于:

所述喷涂装置为冷喷涂装置。

7.一种设于喷涂装置的喷涂喷嘴的喷嘴前端部,其特征在于:

所述喷嘴前端部设于含有供膜材料及载气通过的第1通路的喷嘴主体的前端部、且含有与所述第1通路连通的第2通路,所述第2通路在远离其截面中心的位置扩宽。

8.一种喷涂装置,其特征在于:

所述喷涂装置包括权利要求1至6其中任意一项所述的喷涂喷嘴。

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