[发明专利]具有降低的干扰的三维存储器器件编程在审

专利信息
申请号: 202180000130.3 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN112771617A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 宋雅丽;赵向南;闵园园;贾建权;游开开 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/08;G11C16/10
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 林锦辉
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 降低 干扰 三维 存储器 器件 编程
【权利要求书】:

1.一种三维(3D)存储器器件,包括:

第一组存储器层、在所述第一组存储器层上方的第二组存储器层、以及在所述第一存储器层与所述第二存储器层之间的第一虚设存储器层;

多个NAND存储器串,所述多个NAND存储器串均延伸穿过所述第一组存储器层、所述第二组存储器层和所述第一虚设存储器层,所述NAND存储器串中的每一个包括在所述第二组存储器层上方的漏极选择栅极(DSG);以及

外围电路,所述外围电路被配置为循序地对所述第一组存储器层中的每一个存储器层进行编程,并且然后循序地对所述第二组存储器层中的所述存储器层中的每一个进行编程,

其中,所述外围电路包括:

DSG驱动电路,所述DSG驱动电路被配置为在预充电周期期间,将第一预充电电压施加到所述NAND存储器串中的至少一个的所述DSG,并且所述DSG驱动电路被配置为在编程周期期间,将取消选择电压施加到所述NAND存储器串中的所述至少一个的所述DSG,以取消选择所述NAND存储器串中的所述至少一个;以及

字线(WL)驱动电路,在对所述第一组存储器层中的一个进行编程时,所述WL驱动电路被配置为在所述预充电周期期间,将第二预充电电压施加到所述第一虚设存储器层,所述第二预充电电压与所述第一预充电电压重叠,并且在所述第一预充电电压之前坡降,并且所述WL驱动电路被配置为在所述编程周期期间,将第一沟道通过电压施加到所述第一虚设存储器层。

2.根据权利要求1所述的3D存储器器件,还包括在所述第二组存储器层与所述DSG之间的第二虚设存储器层,其中,所述WL驱动电路还被配置为:

在所述预充电周期期间,将第三预充电电压施加到所述第二虚设存储器层,所述第三预充电电压与所述第一预充电电压和所述第二预充电电压重叠。

3.根据权利要求2所述的3D存储器器件,其中,在所述预充电周期期间,所述第三预充电电压在所述第一预充电电压之前坡降。

4.根据权利要求3所述的3D存储器器件,其中,所述第三预充电电压和所述第二预充电电压具有相同的持续时间。

5.根据权利要求1-3中的任一项所述的3D存储器器件,其中,所述WL驱动电路还被配置为在所述编程周期期间,将第一编程电压施加到所述第一组存储器层中的所述一个。

6.根据权利要求4所述的3D存储器器件,其中,所述WL驱动电路还被配置为在所述预充电周期期间,将第四预充电电压施加到所述第一组存储器层中的所述一个,所述第四预充电电压小于或者等于0V。

7.根据权利要求1所述的3D存储器器件,其中,所述第一组存储器层中的所述一个排除所述第一组存储器层中的与所述第一虚设存储器层直接相邻的存储器层。

8.根据权利要求2所述的3D存储器器件,其中,在对所述第二组存储器层中的一个进行编程时,所述WL驱动电路还被配置为:

在与所述第二组存储器层中的所述一个相关联的预充电周期期间,将第五预充电电压施加到所述第二虚设存储器层,所述第五预充电电压与所述第一预充电电压重叠。

9.根据权利要求8所述的3D存储器器件,其中,所述第五预充电电压在所述第一预充电电压之前坡降。

10.根据权利要求9所述的3D存储器器件,其中,在对所述第二组存储器层中的所述一个进行编程时,所述WL驱动电路还被配置为在与所述第二组存储器层中的所述一个相关联的编程周期期间,将第二编程电压施加到所述第二组存储器层中的所述一个,并且所述WL驱动电路被配置为将第二沟道通过电压施加到所述第一虚设存储器层。

11.根据权利要求8-10中的任一项所述的3D存储器器件,其中,在对所述第二组存储器层中的一个进行编程时,所述WL驱动电路还被配置为:

在所述预充电周期期间,将第六预充电电压施加到所述第一虚设存储器层,所述第六预充电电压小于或者等于0V。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180000130.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top