[实用新型]干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统有效

专利信息
申请号: 202123348572.3 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN216749821U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 张军;徐作杰;姜祎祎;张德伟;汤介峰;荆泉;陈力钧 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 刻蚀 机台 设备 前端 模块 颗粒 堆积物 清理 检测 系统
【权利要求书】:

1.一种干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,包括:

检测盒,设置在干法刻蚀机台的设备前端模块上;

酸性指示剂,装填在所述检测盒之内,能够吸附设备前端模块的颗粒堆积物并且与颗粒堆积物产生化学反应;

PH值探测器,安装在所述检测盒上并且能够与所述酸性指示剂相接触,以检测所述酸性指示剂的PH值;

控制面板,与所述PH值探测器连接,用于接收所述PH值探测器的检测值,所述控制面板将检测值与预设值相比较,以判断是否需要对干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物进行清理。

2.如权利要求1所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,当PH值探测器的检测值大于预设值时,所述控制面板判断不需要对干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物进行清理。

3.如权利要求1所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,当PH值探测器的检测值小于或者等于预设值时,所述控制面板判断需要对干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物进行清理。

4.如权利要求3所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,还包括:

报警器,与所述控制面板连接,当所述控制面板判断需要对干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物进行清理时,所述报警器发出颗粒堆积清理报警信号。

5.如权利要求4所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,所述报警器为声光报警器或者语音报警器。

6.如权利要求1所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,所述检测盒为不带盖的盒体。

7.如权利要求1所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,所述检测盒与干法刻蚀机台的设备前端模块可拆卸连接。

8.如权利要求1所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,所述酸性指示剂为颗粒状的溴酚蓝。

9.一种干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,包括:

检测盒,设置在干法刻蚀机台的设备前端模块上;

酸性指示剂,装填在所述检测盒之内,能够吸附设备前端模块的颗粒堆积物并且与颗粒堆积物产生化学反应。

10.如权利要求9所述的干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统,其特征在于,所述酸性指示剂为溴酚蓝,所述颗粒堆积物为氢溴酸。

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