[实用新型]一种自动涂胶管路及其构成的涂胶系统有效
| 申请号: | 202123336311.X | 申请日: | 2021-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN216459844U | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
| 发明(设计)人: | 王旭东 | 申请(专利权)人: | 成都海威华芯科技有限公司 |
| 主分类号: | B05C11/10 | 分类号: | B05C11/10 |
| 代理公司: | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人: | 张巨箭 |
| 地址: | 610299 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 自动 涂胶 管路 及其 构成 系统 | ||
本实用新型公开了一种自动涂胶管路及其构成的涂胶系统,属于光刻胶技术领域,管路包括依次连接的氮气管(1)、光阻瓶(2)、回流瓶(3)和光阻喷头(4),氮气管(1)连接在光阻瓶(2)上,光阻瓶(2)通过第一管道(5)与回流瓶(3)连接,回流瓶(3)通过第二管道(6)与光阻喷头(4)连接,第二管道(6)上设有回吸阀(7),回吸阀(7)上连接有压缩空气阀(8),氮气管(1)上设有氮气阀(11),回流瓶(3)上设有排气管(9),排气管(9)上设有排气阀(91),该管路利用氮气加压实现自动喷涂,通过回吸组件确保喷胶时不产生气泡和胶滴落;系统实现全自动涂胶,提高工作效率,既能保证涂胶的均匀性又能节省材料。
技术领域
本实用新型涉及光刻胶技术领域,尤其涉及一种自动涂胶管路及其构成的涂胶系统。
背景技术
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。
近年来,伴随着生产和技术的不断创新,传统涂胶工艺研发和生产都是依靠人手工来完成,待需要涂胶的晶圆固定在可旋转的工作台上,人工手动倒在所需涂胶晶圆上后工作台旋转。这种涂胶模式,工人劳动强度大,涂胶的效率极低,而且很难保证涂胶的均匀性和胶体厚度的一致性,涂胶精度低,影响晶圆与晶圆之间重复性且涂胶量也不稳定造成原材料浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中人工涂胶存在的问题,提供了一种自动涂胶管路及其构成的涂胶系统。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:
主要提供一种自动涂胶管路,所述管路包括依次连接的氮气管、光阻瓶、回流瓶和光阻喷头,所述氮气管连接在所述光阻瓶上,所述光阻瓶通过第一管道与所述回流瓶连接,所述回流瓶通过第二管道与所述光阻喷头连接,所述第二管道上设有回吸阀,所述回吸阀上连接有压缩空气阀,所述氮气管上设有氮气阀,所述回流瓶上设有排气管,所述排气管上设有排气阀。
作为一优选项,一种自动涂胶管路,所述光阻瓶为加仑光阻瓶。
作为一优选项,一种自动涂胶管路,所述压缩空气阀、氮气阀、回吸阀和排气阀均为电磁阀。
本实用新型还提供一种自动涂胶系统,包括所述一种自动涂胶管路,所述系统还包括:
用于控制光阻喷头位置的驱动组件,所述驱动组件与所述光阻喷头连接;
用于检测待涂胶晶圆水平位置的传感器;
PLC控制单元,所述PLC控制模块分别与所述传感器、驱动组件、压缩空气阀、氮气阀、回吸阀和排气阀连接;
用于设定涂胶参数的处理器,所述处理器与所述PLC控制单元连接,所述涂胶参数包括涂胶量、涂胶速度和涂胶位置。
作为一优选项,一种自动涂胶系统,所述驱动组件包括驱动电机和旋转马达,所述驱动电机分别与所述PLC控制单元、旋转马达连接,所述旋转马达与所述光阻喷头连接。
作为一优选项,一种自动涂胶系统,所述传感器为限位传感器。
作为一优选项,一种自动涂胶系统,所述PLC控制单元包括PLC控制器。
作为一优选项,一种自动涂胶系统,所述驱动电机为步进电机。
作为一优选项,一种自动涂胶系统,所述处理器为ARM处理器。
作为一优选项,一种自动涂胶系统,所述PLC控制单元还包括继电器开关和电源转换器,所述继电器开关和电源转换器分别与所述PLC控制器连接。
需要进一步说明的是,上述各选项对应的技术特征在不冲突的情况下可以相互组合或替换构成新的技术方案。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都海威华芯科技有限公司,未经成都海威华芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202123336311.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种水龙头自动关闭装置
- 下一篇:一种用于电缆生产的叉式绞线机的放线装置





