[实用新型]一种硅片载片框及硅片镀膜系统

说明书

本申请提供一种硅片载片框及硅片镀膜系统，硅片载片框用于承载硅片以便对硅片进行表面镀膜，硅片载片框包括框本体以及两根挡条。框本体包括主框和多个载片子框，多个载片子框呈阵列分布于主框内，两根挡条分别设置在主框的相对两侧。每个载片子框具有倾斜的承载面，承载面用于承载硅片。而硅片镀膜系统则包括镀膜装置以及上述硅片载片框，镀膜装置包括镀膜工艺腔以及传送机构，传送机构用于传送硅片载片框以使硅片载片框在镀膜工艺腔中运行，挡条的延伸方向与传送机构的传送方向一致。本申请提供的硅片载片框及硅片镀膜系统能改善硅片绕镀、色差及镀膜不均的问题，改善硅片的镀膜品质。

技术领域

本申请涉及太阳能电池技术领域，具体而言，涉及一种硅片载片框及硅片镀膜系统。

背景技术

太阳能电池作为新兴可再生能源、清洁能源、绿色能源，受到越来越广泛的关注。太阳能电池最常见的类型是单晶硅太阳能电池。

影响单晶硅太阳能电池性能的主要结构在于硅片，而单晶硅片镀膜效果的好坏又直接影响单晶硅片的性能。对单晶硅片进行镀膜的较为常见的设备是板式镀膜设备，其主要用于对单晶硅片进行单面沉积镀膜。在对单晶硅片进行单面沉积镀膜时，一般需要使用载片框来对单晶硅片进行承载，电池片不需要镀膜的一面与载片框接触。

目前，在将放置有硅片的载片框放入镀膜设备中对硅片进行镀膜后，硅片会出现绕镀、色差及镀膜不均的问题，影响硅片品质。

实用新型内容

发明人发现，在硅片镀膜的过程中，由于载片框在传输过程中不可避免会出现抖动，硅片容易发生偏移。同时，等离子体气流由气孔喷出作用于硅片表面进行镀膜，设备边缘的等离子体浓度往往小于设备中部的等离子体浓度，造成靠近载片框边缘的硅片的镀膜效果不如中部的硅片，造成绕镀、色差及镀膜不均的问题。

本申请的目的在于提供一种硅片载片框及硅片镀膜系统，其能改善硅片绕镀、色差及镀膜不均的问题，改善硅片的镀膜品质。

为实现上述目的，本申请采用以下技术手段：

本申请第一方面提供一种硅片载片框，其用于承载硅片以便对硅片进行表面镀膜，硅片载片框包括框本体以及两根挡条。框本体包括主框和多个载片子框，多个载片子框呈阵列分布于主框内，两根挡条分别设置在主框的相对两侧。每个载片子框具有倾斜的承载面，承载面用于承载硅片。

待镀膜的硅片放置于载片子框的承载面上，然后将该载片框送入镀膜设备的镀膜工艺腔中，以对硅片进行镀膜。发明人创造性的发现，在镀膜过程中，使用倾斜的承载面对硅片进行承载，同时在主框的两侧设置挡条，并使挡条的延伸方向与硅片载片框在镀膜设备中的行径方向一致时，挡条可以将作用于硅片的等离子体进行一定的阻挡，使框本体两侧的等离子体浓度得以提高；同时由于气流从镀膜工艺腔的腔体上部气孔喷出，挡条的延伸方向与硅片载片框在镀膜设备中的行径方向一致，使得带来的扰动较小；并且，载片框在行径的过程中硅片不易发生偏移，可以更好地改善硅片绕镀、色差及镀膜不均的问题。

进一步的，定义：沿挡条的延伸方向，主框的尺寸为框宽度。沿垂直于挡条的延伸方向，主框的尺寸为框长度。每根挡条的长度均为框宽度的1/3-1/2。

挡条的长度为框宽度的1/3-1/2，可以进一步改善硅片色差及镀膜不均的问题。

进一步的，两根挡条径向高度均超出承载面上端5mm-10mm。硅片往往是很薄的薄片，在将硅片放置在承载面上后，挡条上端与硅片上表面之间的距离也基本保持在5mm-10mm，此距离可以更好地改善硅片色差及镀膜不均的问题。

进一步的，两根挡条通过多个固定件固定在主框上。通过固定件将挡条与主框进行固定，两者固定方式简单，利于挡条的安装及更换。

进一步的，固定件为螺钉，挡条与主框通过螺接方式固定。通过简单的方式即可实现挡条与主框之间的固定，连接可靠，方便拆装。