[实用新型]一种小功率纳米晶射频除垢装置

权利要求书

1.一种小功率纳米晶射频除垢装置，其特征在于，包括管道（1）、前法兰（2）、三角支架（3）、电极（4）、后法兰（5）、滤网（6）、电控箱（7）、总控开关（8）、操控单元（9）、基座（10），基于管道（1）前后端焊接安装有前法兰（2）和后法兰（5），管道（1）内径通过三角支架（3）固定安装有电极（4），管道（1）内径固定安装滤网（6），管道（1）外径焊接安装有基座（10），电控箱（7）与基座（10）侧端螺栓紧固安装，电控箱（7）电连接安装总控开关（8）和操控单元（9）。

2.根据权利要求1所述的一种小功率纳米晶射频除垢装置，其特征在于，所述基座（10）由弧形底座（11）、基板（12）、矩形对接槽（13）和锁紧螺栓（14）组成，弧形底座（11）上端水平焊接安装有基板（12），基板（12）四角位置加工成型有矩形对接槽（13）。

3.根据权利要求1所述的一种小功率纳米晶射频除垢装置，其特征在于，所述滤网（6）由弧形挡板（15）和后滤网（16）组成，滤网（6）为筒型结构，滤网（6）前端焊接安装有弧形挡板（15），滤网（6）后端焊接安装有后滤网（16），弧形挡板（15）做挡料设计。

4.根据权利要求1所述的一种小功率纳米晶射频除垢装置，其特征在于，所述电控箱（7）底层安装有缓震胶垫。