[实用新型]应用于锗单晶生长的掺杂装置有效

专利信息
申请号: 202123177763.8 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN216998663U 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 曹旭;刘志远;李燕;王博;王宇;张路;雷同光;赵哲;孔腾飞 申请(专利权)人: 有研国晶辉新材料有限公司
主分类号: C30B29/08 分类号: C30B29/08;C30B15/04
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 佟林松
地址: 065201 河北省廊坊市三*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 应用于 锗单晶 生长 掺杂 装置
【权利要求书】:

1.一种应用于锗单晶生长的掺杂装置,其特征在于,包括装置本体以及连接在所述装置本体一端端部的连接部件,所述装置本体上与所述连接部件相对的一端开设有容纳腔,用于容纳掺杂剂。

2.根据权利要求1所述的应用于锗单晶生长的掺杂装置,其特征在于,所述装置本体呈圆柱状,所述容纳腔开设在其侧壁上。

3.根据权利要求1或2所述的应用于锗单晶生长的掺杂装置,其特征在于,所述容纳腔呈倾斜U字型。

4.根据权利要求1所述的应用于锗单晶生长的掺杂装置,其特征在于,所述连接部件呈倒圆锥台状,且其端面连接所述装置本体。

5.根据权利要求1所述的应用于锗单晶生长的掺杂装置,其特征在于,所述装置本体的材质为高纯锗。

6.根据权利要求1所述的应用于锗单晶生长的掺杂装置,其特征在于,所述连接部件的材质为高纯锗。

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