[实用新型]一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置

说明书

本实用新型公开了一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，包括低位储槽，低位储槽内设有循环泵，循环泵通过输液管连接于高位储槽，高位储槽还通过溢流管连接于低位储槽，高位储槽通过辅助给液管路连接脱铜槽，低位储槽通过主给液管路连接于脱铜槽，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高，该种装置大大提高了砷的脱除率，降低了电解液净化成本，铜和砷的比例容易控制，对操作人员素质要求不高，容易操作。

技术领域

本实用新型涉及铜电解技术领域，具体为一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置。

背景技术

目前国内铜冶金企业在电解铜的生产中净化电解液的方法大多是运用诱导法来脱除电解液中的砷、锑、铋，砷的脱除率在60-85％之间，在实际生产中由于铜砷比失调，造成脱砷槽内脱砷率只有30-50％，只有将铜和砷的比例控制在1.7-3:1,同时铜离子浓度还不能高于8g/l，才能最大效率将砷从电解液中脱除。采用诱导法脱砷，主给液和辅助给液采用的是同一种溶液，辅助给液溶液中本身含有砷离子，使脱砷槽内铜和砷的比例失调，造成脱砷率低，增加了净化电解液成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，包括低位储槽，所述低位储槽内设有循环泵，所述循环泵通过输液管连接于高位储槽，所述高位储槽还通过溢流管连接于低位储槽，所述高位储槽通过辅助给液管路连接脱铜槽，所述低位储槽通过主给液管路连接于脱铜槽，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高。

进一步的，所述辅助给液管路和主给液管路上均设有阀门。

进一步的，所述主给液为低位储槽内部经过一段、二段脱铜后的溶液。

进一步的，所述低位储槽和高位储槽均使用不锈钢材质，主给液管路和辅助给液管路均使用CPVC材质。

进一步的，所述低位储槽上还设有注液管路，所述注液管路上设有开关阀。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

该种装置大大提高了砷的脱除率，降低了电解液净化成本，铜和砷的比例容易控制，对操作人员素质要求不高，容易操作。

附图说明

图1是本实用新型的工艺示意图。

附图标记中：1、低位储槽；2、循环泵；3、输液管；4、高位储槽；5、溢流管；6、辅助给液管路；7、脱铜槽；8、主给液管路；9、阀门；10、注液管路。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型进一步详细说明。其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“底部”和“顶部”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，包括低位储槽1，低位储槽1内设有循环泵2，循环泵2通过输液管3连接于高位储槽4，高位储槽4还通过溢流管5连接于低位储槽1，高位储槽4通过辅助给液管路6连接脱铜槽7，低位储槽1通过主给液管路8连接于脱铜槽7，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高。

辅助给液管路6和主给液管路8上均设有阀门9，用于控制辅助给液管路6和主给液管路8的出液量。

主给液为低位储槽1内部经过一段、二段脱铜后的溶液。

低位储槽1和高位储槽4均使用不锈钢材质，主给液管路8和辅助给液管路6均使用CPVC材质。