[实用新型]一种新型双圈研磨砚台

说明书

本实用新型涉及砚台技术领域，更具体地，涉及一种新型双圈研磨砚台，包括外砚台和设于外砚台内的内砚堂；内砚堂与外砚台之间形成用于盛放清水的储水槽；内砚堂上设有可将内砚堂内的物料直接排至外砚台外部的第一砚嘴。本实用新型对传统双圈砚台进行了改进，不仅可保证内砚堂的湿润，还可减少外砚台在清洗时受到污染，降低了清洗的难度，节省了清洗外砚台的时间，进而极大程度提高了砚台清洗的效率。

技术领域

本实用新型涉及砚台技术领域，更具体地，涉及一种新型双圈研磨砚台。

背景技术

釉下五彩瓷有着白如玉、明如镜、薄如纸、声如磬的美誉，由于其工艺复杂、技术难度大，且烧制出来的瓷质别具一格，因此，成为我国陶瓷艺术的瑰宝，并于2008年被被列入中国非物质文化遗产保护名录。

虽然目前砚台种类很多，功能效果各异，但是针对原石釉下五彩陶瓷墨线、色线勾线料的研磨工艺还没有非常适合的砚台，现有的单打砚台无法对勾线料进行保湿，使得勾线料很快干燥而不能使用，不仅需要对砚台频繁清洗，同时也会造成对勾线料的浪费。

而现有的双圈砚台，虽可实现对勾线料的保湿，但是由于釉下五彩陶瓷的勾线料里面的成份具有难以清洗的油脂，如果在清洗的过程中内砚堂残余勾线料污染到外圈凹槽，会导致外圈凹槽也需要进行清洗，造成时间的浪费和清洗效果变差，进而会大大降低砚台的使用效率。

如现有技术中公开了一种易清洗的砚台，包括砚台本体，砚台本体上设有容墨槽，容墨槽的表面和外边缘涂抹一层不沾层，所述砚台由于在砚台的研磨槽的表面和外边缘涂抹一层不沾层，因此使得砚台易于清洗，但是所述砚台为单圈设置，无法对勾线料进行保湿，容易使得勾线料很快干燥而不能使用。

实用新型内容

本实用新型为克服上述现有技术所述的单打砚台无法对勾线料进行保湿，而双圈砚台在清洗过程中易导致外圈凹槽被污染而增加清洗负担的技术问题，提供一种既可保持内砚堂勾线料的湿润，又可在清洗过程中防止外圈凹槽受到污染的新型双圈研磨砚台。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种新型双圈研磨砚台，包括外砚台和设于所述外砚台内的内砚堂；所述内砚堂与外砚台之间形成用于盛放清水的储水槽；所述内砚堂上设有可将内砚堂内的物料直接排至外砚台外部的第一砚嘴。

本实用新型使用时，将物料加入至内砚堂内，将清水加入至在外砚台和内砚堂之间的储水槽内，这样的结构设置可防止内砚堂的物料过快干燥，使物料保持湿润液态，减少物料的挥发加速；而当使用完毕需要对砚台进行清洗时，将内砚堂内的残余物料顺着第一砚嘴直接排至外砚台外部，不会流至外砚台内，即可大大减少对外砚台的污染，节省了清洗砚台的时间，极大程度提高了砚台的清洗效率，使用非常方便。

优选的，所述第一砚嘴为所述内砚堂上边缘水平向外延伸形成的尖嘴。

优选的，所述第一砚嘴的端部所在的垂线与所述外砚台底部的内边缘线相交；所述内砚堂的内腔深度大于所述外砚台的内腔深度。

优选的，所述第一砚嘴的端部距离外砚台内底部的垂直距离与位于所述第一砚嘴下方的内砚堂底部外边缘距离所述外砚台内壁的水平距离相等。

优选的，所述外砚台上设有第二砚嘴；所述第二砚嘴位于所述第一砚嘴的正下方。

优选的，所述第二砚嘴为设置在外砚台内侧壁的豁口。

优选的，所述外砚台呈顶部开口的圆筒状结构。

优选的，所述内砚堂的底部横截面为与所述外砚台的底部圆面同心设置的圆面。

优选的，所述外砚台上设有可盖合至所述外砚台顶部的顶盖。

优选的，所述顶盖的顶部设有提手。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：