[实用新型]一种新型双圈研磨砚台有效

专利信息
申请号: 202122842513.5 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN216231401U 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 尚香;刘欣雨;陈文苑;陈洁泳 申请(专利权)人: 广州南洋理工职业学院
主分类号: B43L27/00 分类号: B43L27/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 朱忠俊
地址: 510000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 研磨 砚台
【权利要求书】:

1.一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:包括外砚台(1)和设于所述外砚台(1)内的内砚堂(2);所述内砚堂(2)与外砚台(1)之间形成用于盛放清水的储水槽(3);所述内砚堂(2)上设有可将内砚堂(2)内的物料直接排至外砚台(1)外部的第一砚嘴(4)。

2.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第一砚嘴(4)为所述内砚堂(2)上边缘水平向外延伸形成的尖嘴。

3.根据权利要求2所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第一砚嘴(4)的端部(41)所在的垂线(42)与所述外砚台(1)底部的内边缘线(11)相交;所述内砚堂(2)的内腔深度大于所述外砚台(1)的内腔深度。

4.根据权利要求3所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第一砚嘴(4)的端部(41)距离外砚台(1)内底部的垂直距离与位于所述第一砚嘴(4)下方的内砚堂(2)底部外边缘距离所述外砚台(1)内壁的水平距离相等。

5.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述外砚台(1)上设有第二砚嘴(7);所述第二砚嘴(7)位于所述第一砚嘴(4)的正下方。

6.根据权利要求5所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第二砚嘴(7)为设置在外砚台(1)内侧壁的豁口。

7.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述外砚台(1)呈顶部开口的圆筒状结构。

8.根据权利要求7所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述内砚堂(2)的底部横截面为与所述外砚台(1)的底部圆面同心设置的圆面。

9.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述外砚台(1)上设有可盖合至所述外砚台(1)顶部的顶盖(5)。

10.根据权利要求9所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述顶盖(5)的顶部设有提手(6)。

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