[实用新型]一种新型双圈研磨砚台有效
| 申请号: | 202122842513.5 | 申请日: | 2021-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN216231401U | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
| 发明(设计)人: | 尚香;刘欣雨;陈文苑;陈洁泳 | 申请(专利权)人: | 广州南洋理工职业学院 |
| 主分类号: | B43L27/00 | 分类号: | B43L27/00 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 朱忠俊 |
| 地址: | 510000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 新型 研磨 砚台 | ||
1.一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:包括外砚台(1)和设于所述外砚台(1)内的内砚堂(2);所述内砚堂(2)与外砚台(1)之间形成用于盛放清水的储水槽(3);所述内砚堂(2)上设有可将内砚堂(2)内的物料直接排至外砚台(1)外部的第一砚嘴(4)。
2.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第一砚嘴(4)为所述内砚堂(2)上边缘水平向外延伸形成的尖嘴。
3.根据权利要求2所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第一砚嘴(4)的端部(41)所在的垂线(42)与所述外砚台(1)底部的内边缘线(11)相交;所述内砚堂(2)的内腔深度大于所述外砚台(1)的内腔深度。
4.根据权利要求3所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第一砚嘴(4)的端部(41)距离外砚台(1)内底部的垂直距离与位于所述第一砚嘴(4)下方的内砚堂(2)底部外边缘距离所述外砚台(1)内壁的水平距离相等。
5.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述外砚台(1)上设有第二砚嘴(7);所述第二砚嘴(7)位于所述第一砚嘴(4)的正下方。
6.根据权利要求5所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述第二砚嘴(7)为设置在外砚台(1)内侧壁的豁口。
7.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述外砚台(1)呈顶部开口的圆筒状结构。
8.根据权利要求7所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述内砚堂(2)的底部横截面为与所述外砚台(1)的底部圆面同心设置的圆面。
9.根据权利要求1所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述外砚台(1)上设有可盖合至所述外砚台(1)顶部的顶盖(5)。
10.根据权利要求9所述的一种新型双圈研磨砚台,其特征在于:所述顶盖(5)的顶部设有提手(6)。
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