[实用新型]一种承载盘及气相外延设备有效
| 申请号： | 202122746064.4 | 申请日： | 2021-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN216378480U | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 康联鸿;尧舜;胡斌;董国亮;刘晨晖;陈章龙;冒凯;戴伟;汤秀娟 | 申请（专利权）人： | 华芯半导体研究院（北京）有限公司;华芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B23/00 | 分类号： | C30B23/00;C30B25/12 |
| 代理公司： | 北京中知法苑知识产权代理有限公司 11226 | 代理人： | 李明;赵吉阳 |
| 地址： | 101300 北京市顺*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 承载 外延 设备 | ||
1.一种承载盘，用于悬浮在基座上，以在所述基座提供的气流下旋转，其特征在于，所述承载盘朝向所述基座的表面设置有至少一个气流阻挡结构，所述气流阻挡结构沿所述气流的流动方向设置，所述气流阻挡结构能够阻挡所述气流以推动所述承载盘旋转。
2.根据权利要求1所述的承载盘，其特征在于，所述气流阻挡结构为设置在所述承载盘表面的气流阻挡槽。
3.根据权利要求2所述的承载盘，其特征在于，所述气流阻挡槽的横截面呈弧形。
4.根据权利要求3所述的承载盘，其特征在于，所述气流阻挡槽的第一端位于所述承载盘的边缘区域，所述气流阻挡槽的第二端位于所述承载盘的中心区域。
5.根据权利要求4所述的承载盘，其特征在于，所述气流阻挡槽的第二端的深度大于其第一端的深度。
6.根据权利要求5所述的承载盘，其特征在于，所述气流阻挡槽的深度自其第二端向第一端依次递减。
7.根据权利要求6所述的承载盘，其特征在于，所述气流阻挡槽的第二端深度范围为0.8mm～1.2mm，所述气流阻挡槽的第一端深度范围为0.1mm～0.3mm。
8.根据权利要求1至7任一项所述的承载盘，其特征在于，所述承载盘设置有多个气流阻挡结构，所述多个气流阻挡结构沿所述承载盘的周向间隔设置。
9.根据权利要求8所述的承载盘，其特征在于，所述基座上设置有多个吹气孔，每个所述气流阻挡结构对应至少一个所述吹气孔。
10.一种气相外延设备，其特征在于，所述气相外延设备包括基座以及悬设在所述基座上的承载盘，所述承载盘采用权利要求1至9任一项所述的承载盘。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华芯半导体研究院（北京）有限公司;华芯半导体科技有限公司，未经华芯半导体研究院（北京）有限公司;华芯半导体科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202122746064.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种混凝土浆水压滤装置
- 下一篇：一种密封效果好的电动锁气器
