[实用新型]一种镀膜机用升降式基片台

说明书

本实用新型公开了一种镀膜机用升降式基片台，属于真空镀膜机技术领域，包括内部中空且顶部开口的台体，所述台体的内部安装有通过升降气缸控制升降的基片放置架，所述台体的顶部开口左右铰接有盖板，所述盖板通过连杆结构与所述基片放置架连接，使所述基片放置架在升起时所述连杆结构推动所述盖板打开开口，所述基片放置架在下降时所述连杆结构拉动所述盖板关闭开口。通过基片放置架来固定待镀膜的基片，而基片放置架可从台体内伸出，方便基片的镀膜，镀膜完毕后基片放置架可再次收回台体内部，其中台体的盖板与基片放置架之间联动，使基片放置架在伸出时盖板打开，收回时盖板关闭，这样可以保护镀膜后的基片不被二次附着镀膜材料。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，特别涉及一种镀膜机用升降式基片台。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

基片台在真空镀膜机中用来放置基片的装置，由于基片的镀膜是一个持续的过程，随着镀膜时间越长，则基片表面的镀膜厚度也越厚，传统的基片台无法对基片进行防护，导致基片表面的镀膜厚度也会增加，而且在镀膜不同材料时容易污染到不需要镀膜该材料的裸露基片，影响产品品质，从而不能满足实际生产需求，因此使用时存在一定的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的基片台不能有效的保护基片的问题而提供一种镀膜机用升降式基片台，具有可防止基片被其他镀膜材料污染，提高镀膜产品品质，镀膜效率高便于上下料的优点。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的，一种镀膜机用升降式基片台，包括内部中空且顶部开口的台体，所述台体的内部安装有通过升降气缸控制升降的基片放置架，所述台体的顶部开口左右铰接有盖板，所述盖板通过连杆结构与所述基片放置架连接，使所述基片放置架在升起时所述连杆结构推动所述盖板打开开口，所述基片放置架在下降时所述连杆结构拉动所述盖板关闭开口。

优选的，所述基片放置架的底部安装升降座，升降座的底部连接推杆，推杆与升降气缸的输出端连接。

优选的，所述连杆结构包括连接在升降座上的连接杆，连接杆通过第一旋转轴转动连接在摆动杆的端部，摆动杆的另一端通过第二旋转轴转动连接盖板。

优选的，所述基片放置架包括安装在支撑架顶部的固定架，固定架上设置有用于夹持待镀膜基片的基片夹板。

优选的，所述固定架的两侧竖直设置导向杆，基片夹板沿着导向杆滑动，且基片夹板通过磁铁片磁性连接固定架的两侧。

优选的，所述固定架的两端分别与支撑架之间转动连接，使被夹持的基片可上下翻转，固定架的其中一端安装有从动齿轮，从动齿轮与翻转电机驱动的主动齿轮啮合。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过基片放置架来固定待镀膜的基片，而基片放置架可从台体内伸出，方便基片的镀膜，镀膜完毕后基片放置架可再次收回台体内部，其中台体的盖板与基片放置架之间联动，使基片放置架在伸出时盖板打开，收回时盖板关闭，这样可以保护镀膜后的基片不被二次附着镀膜材料。

2、通过设置可以上下翻转的固定架来使基片的正反面可以调换，对基片的正反面进行快速镀膜，提高了镀膜的效率，而且固定基片的基片夹板采用磁吸的方式进行夹持，也便于操作。

附图说明