[实用新型]一种外延炉的过滤装置及其应用的外延设备

说明书

本实用新型提供一种外延炉的过滤装置及其应用的外延设备，所述过滤装置至少包括：进气端；出气端；尾气处理单元，所述进气端和所述出气端通过尾气处理单元连接；收纳盒，所述收纳盒与所述尾气处理单元连接；以及，过滤网，设置在所述尾气处理单元和所述出气端之间。本实用新型所提供的外延炉过滤装置，可以改善外延炉尾端极易堵塞、工艺制程泵易损坏的问题。

技术领域

本实用新型属于半导体设备技术领域，特别是涉及一种外延炉的过滤装置及其应用的外延设备。

背景技术

氯基化学气相沉积(CVD：Chemical Vapor Deposition)外延系统由于温度低、易控制、薄膜均匀性好，且加入三氯氢硅(HCl₃Si)等可以有效抑制体系中硅团簇的生成，已成为制备碳化硅(SiC)外延薄膜的主要方法。SiC同质外延炉在外延生长过程中产生的反应残留物及多余气体从负压尾端排出至尾气处理系统，此过程排气量大小，由控制蝶阀开合角度和干泵排气量决定，此两种配件的好坏直接影响到外延炉运行得稳定性。但是，目前在外延设备中大部分采用空气过滤器装置，此装置大部分只能过滤干燥性尾气颗粒，并且易堵塞、成本高。并且，反应过程中产生的三氯氢硅、硅团簇、C-H断链烃及氯基化合物等有较强的腐蚀性、粘连性，多晶SiC颗粒物等也会有大部分附着在尾端及蝶阀上，造成蝶阀和机械泵异常宕机，影响机台正常运行。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种外延炉的过滤装置及其应用的外延设备，通过在外延炉尾端增设过滤装置，改善外延炉尾端极易堵塞、工艺制程泵易损坏的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型提供一种外延炉的过滤装置，其包括：

进气端；

出气端；

尾气处理单元，所述进气端和所述出气端通过尾气处理单元连接；

加热器，用于加热附着在所述尾气处理单元内的颗粒物；

收纳盒，所述收纳盒与所述尾气处理单元连接；

以及，过滤网，设置在所述尾气处理单元和所述出气端之间。

在本实用新型的一个实施例中，还包括，

卡箍，所述进气端、所述出气端分别与所述尾气处理单元通过卡箍连接，所述尾气处理单元与所述收纳盒通过卡箍连接。

在本实用新型的一个实施例中，所述一种外延炉的过滤装置，包括锥形加热器，用于加热附着在所述尾气处理单元内的颗粒物。

在本实用新型的一个实施例中，所述收纳盒连接在所述尾气处理单元正下方，便于收集、存储在重力的作用下落入所述收纳盒中的颗粒物。

在本实用新型的一个实施例中，所述过滤网在所述尾气处理单元和所述出气端之间，所述过滤网连接在所述出气端一端，所述过滤网另一端与所述尾气处理单元相距70-80mm，便于阻挡所述尾气处理单元中随气流传载过来的颗粒物和团簇。

本实用新型提供一种外延设备，其包括，

外延炉反应室；

蝶阀；

机械泵；

以及，上述的一种外延炉的过滤装置，包括进气端；出气端；尾气处理单元，所述进气端和所述出气端通过尾气处理单元连接；收纳盒，所述收纳盒与所述尾气处理单元连接；以及，过滤网，设置在所述尾气处理单元和所述出气端之间。