[实用新型]机台连接结构有效

专利信息
申请号: 202122637850.0 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN216284077U 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 吴国明;王彭 申请(专利权)人: 泓浒(苏州)半导体科技有限公司
主分类号: G01L19/00 分类号: G01L19/00;G01L21/00
代理公司: 苏州隆恒知识产权代理事务所(普通合伙) 32366 代理人: 计静静
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 机台 连接 结构
【说明书】:

实用新型公开了一种机台连接结构,包括:真空腔室,所述真空腔室设置在所述机台内部,所述真空腔室具有与其内部连通的出口部;检测装置,所述检测装置能够测量真空度;真空阀,所述真空阀与所述真空腔室和所述检测装置连通,所述真空阀能在打开与关闭时使得真空腔室与检测装置之间处于连通或隔断状态。本实用新型可以使得在关闭真空阀后实现将真空腔室与检测装置之间隔断,从而防止在清洗真空腔室时杂质进入检测装置的情况,避免了对检测装置造成污染。此外,由于在关闭真空阀进行清洗时,仅对真空腔室进行清洗,进而相对于真空腔室与检测装置直接连接的情况,可以减小清洗区域,进而节省时间并提升清洗效率。

技术领域

本实用新型涉及了机械连接领域,具体的是一种机台连接结构。

背景技术

机台连接结构是一种将机台内部的真空腔室和外部检测装置连接的结构,用于使检测装置实现测定真空腔室内部真空度的效果。现有的机台连接结构中,真空腔室之与检测装置之间直接连通,进而使得检测装置对于真空腔室进行检测。但在实际操作中,除了对真空腔室内部进行检测真空度外,还需要在机台更换制程时对真空腔室进行清洗。由于真空腔室内部具有杂质,使得在对真空腔室进行清洗时杂质会进入检测装置,从而对检测装置造成污染。

实用新型内容

为了克服现有技术中的缺陷,本实用新型实施例提供了一种机台连接结构,其用于解决上述对真空腔室清洗时对检测装置造成污染的情况。

本申请实施例公开了:一种机台连接结构,包括:真空腔室,所述真空腔室设置在所述机台内部,所述真空腔室具有与其内部连通的出口部;检测装置,所述检测装置能够测量真空度;真空阀,所述真空阀与所述真空腔室和所述检测装置连通,所述真空阀能在打开与关闭时使得真空腔室与检测装置之间处于连通或隔断状态。

进一步地,包括机架,所述机架与所述机台固定连接,所述检测装置和所述真空阀均与所述机架的上表面抵接。

进一步地,所述机架包括:托架本体,所述托架本体沿真空阀和检测装置之间的排列方向延伸;连接板,所述连接板与所述托架本体的侧部固定连接,所述连接板与所述机台螺纹连接;第一支撑平台,所述第一支撑平台与所述托架本体的上部固定连接,所述第一支撑平台与所述真空阀的下底面抵接;第二支撑平台,所述第二支撑平台与所述托架本体的上部固定连接,所述第二支撑平台与所述检测装置的下底面抵接。

进一步地,所述第一支撑平台开设有第一连接孔,所述第一连接孔用于将所述第一支撑平台和所述真空阀螺纹连接。

进一步地,所述第二支撑平台开设有第二连接孔,所述第二连接孔用于将所述第二支撑平台和所述检测装置螺纹连接。

进一步地,所述真空阀包括第一接口和第二接口,所述第一接口与所述出口部对接,所述第二接口与所述检测装置对接。

进一步地,所述第一接口与所述出口部之间和所述第二出口与所述检测装置之间均设置有密封圈。

本实用新型的有益效果如下:

1、通过在真空腔室和检测装置之间加装真空阀,可以使得在关闭真空阀后实现将真空腔室与检测装置之间隔断,从而防止在清洗真空腔室时杂质进入检测装置的情况,避免了对检测装置造成污染。

2、由于在关闭真空阀进行清洗时,仅对真空腔室进行清洗,进而相对于真空腔室与检测装置直接连接的情况,可以减小清洗区域,进而节省时间并提升清洗效率。

3、机架的上表面与检测装置和真空阀抵接,可以使得机架的上表面向检测装置和真空阀提供支撑力,从而避免了检测装置和真空阀由于重力作用而发生相互脱离的情况,使得整个机台连接结构具有更好的稳定性。

为让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。

附图说明

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