[实用新型]烤盘、烤盘组件和煎烤机

权利要求书

1.一种烤盘，其特征在于，包括：

盘本体；和

水槽结构，所述水槽结构连接于所述盘本体，所述水槽结构形成有至少两储水槽，其中的一所述储水槽的槽深大于另一所述储水槽的槽深。

2.如权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述盘本体包括底板与侧板，所述侧板与所述底板连接，并围合形成加工空间，所述水槽结构连接于所述侧板，所述储水槽与所述加工空间连通。

3.如权利要求2所述的烤盘，其特征在于，所述侧板背离所述底板的侧边开设有让位口，所述让位口与至少一所述储水槽连通。

4.如权利要求3所述的烤盘，其特征在于，定义所述水槽结构的储水槽中包括第一储水槽和第二储水槽，所述第一储水槽的槽深大于所述第二储水槽的槽深，所述第一储水槽和所述第二储水槽均通过所述让位口与所述加工空间连通。

5.如权利要求2所述的烤盘，其特征在于，所述水槽结构的数量为至少两个，两所述水槽结构沿所述盘本体的周向间隔排布设置。

6.如权利要求2至5中任一所述的烤盘，其特征在于，所述水槽结构包括槽侧板和槽底板，所述槽底板、所述槽侧板以及所述侧板围合形成所述储水槽，所述槽侧板为弧形板设置；

和/或，所述水槽结构形成有的至少两所述储水槽相互连通设置，两所述储水槽的面积不同；

和/或，所述底板位于所述加工空间内的表面设有防粘层；

和/或，所述盘本体和所述水槽结构的材质为导热金属材质，所述盘本体和所述水槽结构为一体结构；

和/或，所述盘本体还包括转动结构，所述转动结构连接于所述侧板背离所述加工空间的表面。

7.一种烤盘组件，其特征在于，所述烤盘组件包括烤盘盖以及烤盘，所述烤盘为权利要求1至6任一所述的烤盘，所述烤盘盖盖合所述烤盘并形成密封结构。

8.如权利要求7所述烤盘组件，其特征在于，所述烤盘盖包括盖板和挡流筋，所述挡流筋与所述盖板连接，所述盖板盖合所述储水槽并围合形成蒸汽空间，所述挡流筋设于所述蒸汽空间内并罩盖所述储水槽形成让位口；

所述烤盘盖还包括合拢围板，所述合拢围板与所述盖板连接，所述盖板盖合所述盘本体并围合形成加工空间，所述合拢围板设于所述加工空间内并罩盖所述盘本体；

所述盖板靠近所述盘本体的底板的一侧固定有导热条，所述导热条设于所述加工空间内。

9.如权利要求8所述烤盘组件，其特征在于，所述盖板、所述挡流筋、所述导热条以及所述合拢围板的材质为导热金属材质，所述盖板、所述挡流筋、所述导热条以及所述合拢围板为一体结构；

和/或，所述盖板还设有转动轴，所述转动轴用于与转动结构连接，使得所述烤盘盖与所述烤盘可闭合连接。

10.一种煎烤机，其特征在于，所述煎烤机包括烤盘组件，所述烤盘组件为权利要求7至9任一所述的烤盘组件。