[实用新型]双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台

权利要求书

1.一种薄膜沉积机台，其特征在于，包括：

一反应腔体，包括一容置空间；

一承载盘，位于该容置空间内，并用以承载至少一基板；

一靶材，位于该反应腔体的该容置空间内，并面对该承载盘；及

一双开式遮蔽构件，包括：

一第一遮蔽板，位于该容置空间内；

一第二遮蔽板，位于该容置空间内，其中该第一遮蔽板及该第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，朝向该承载盘的方向；及

一驱动装置，包括：

一轴封装置，连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板；

至少一驱动马达，连接该轴封装置，并经由该轴封装置分别驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在该开启状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板之间会形成一间隔空间，而操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板会相互靠近，并用以遮挡该承载盘。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积机台，其特征在于，其中该轴封装置包括一外管体及一轴体，该外管体包括一空间用以容置该轴体，该驱动马达通过该轴体连接该第一遮蔽板，通过该外管体连接该第二遮蔽板，并同步驱动该轴体及该外管体朝相反的方向转动。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积机台，其特征在于，包括两个感测单元与该外管体相邻，该两个感测单元之间具有一间距，并分别用以感测该外管体转动至一第一位置及一第二位置，其中该外管体转动至该第一位置时，该第二遮蔽板操作在该开启状态，而该外管体转动至该第二位置时，该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态。

4.根据权利要求2所述的薄膜沉积机台，其特征在于，包括一第一连接臂及一第二连接臂，该轴体通过该第一连接臂连接该第一遮蔽板，而该外管体则通过该第二连接臂连接该第二遮蔽板，该第一连接臂及该第二连接臂上设置至少一穿孔部。

5.根据权利要求4所述的薄膜沉积机台，其特征在于，包括一第一距离感测单元及一第二距离感测单元，而该第一连接臂具有一第一反射面，该第二连接臂则具有一第二反射面，其中该第一距离感测单元及该第二距离感测单元设置在该反应腔体上，并分别用以将一第一感测光束及一第二感测光束投射至该第一连接臂的该第一反射面及该第二连接臂的该第二反射面，以确认该第一遮蔽板及该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态。

6.一种双开式遮蔽构件，其特征在于，适用于一薄膜沉积机台，包括：

一第一遮蔽板；

一第二遮蔽板，其中该第一遮蔽板及该第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，设置在该第一遮蔽板及该第二遮蔽板的一下表面，其中该第一遮蔽板上的该凹槽的截面积为该第一遮蔽板面积的30％至70％之间，而该第二遮蔽板上的该凹槽的截面积为该第二遮蔽板面积的30％至70％之间；及

一驱动装置，包括：

一轴封装置，连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板；

至少一驱动马达，连接该轴封装置，并经由该轴封装置分别驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在该开启状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板之间会形成一间隔空间，而操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板会相互靠近，并形成一遮蔽件。

7.根据权利要求6所述的双开式遮蔽构件，其特征在于，其中该轴封装置包括一外管体及一轴体，该外管体包括一空间用以容置该轴体，该驱动马达通过该轴体连接该第一遮蔽板，通过该外管体连接该第二遮蔽板，并同步驱动该轴体及该外管体朝相反的方向转动。

8.根据权利要求7所述的双开式遮蔽构件，其特征在于，包括两个感测单元与该外管体相邻，该两个感测单元之间具有一间距，并分别用以感测该外管体转动至一第一位置及一第二位置，其中该外管体转动至该第一位置时，该第二遮蔽板操作在该开启状态，而该外管体转动至该第二位置时，该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态。