[实用新型]一种真空镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括镀膜腔，镀膜腔的底部安装有坩埚和电子枪，镀膜腔的顶部旋转安装有自转架，自转架由旋转动力装置驱动，镀膜腔的一侧设置有冷却腔体，冷却腔体上固定有冷泵连接法兰，冷泵连接法兰上设置有抽气口，冷却腔体内在冷泵连接法兰处安装有阀座，该阀座将冷却腔体分隔成第一腔室和第二腔室，冷泵连接法兰的外部安装有与第二腔室联通的冷泵，冷却腔体上滑动有阀瓣，阀瓣由第一开闭动力装置驱动；冷却腔体上设置有与第一腔室联通的抽真空管接口，所述抽真空管接口与抽真空系统连通。该真空镀膜机真空的形成时间更短。

技术领域

本实用新型涉及一种真空镀膜机，是一种在真空的环境下利用电子束加热金属使其蒸发在基片上镀膜的设备。

背景技术

真空镀膜机是半导体材料制作过程中一种常用的设备，目前主要有电子束蒸发法，其主要原理是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基片移动，在基底上凝结形成薄膜的方法。电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。

专利号为CN202021013114.7的专利公开了一种电子束蒸发台主要包括箱体1，所述箱体1为内部具有真空腔室的腔体11；旋转装置，所述旋转装置枢转安装于腔体11的顶部，所述旋转装置放置有基片：坩埚4，所述坩埚4设于旋转装置的下方，所述坩埚4设置有多个，所述坩埚4放置有靶材；电子枪5，所述电子枪5设于腔体11内，所述电子枪5可对靶材施加高温。这种电子束蒸发台的腔体通过真空系统，真空系统按照市面上的方式采用冷泵冷却使内部真空度满足要求，例如专利号为202021011689.5公开了一种电子束蒸发台蒸发工艺腔体，这个腔体连接冷泵用来制冷提供真空，冷泵提供真空的原理是：冷泵的冷板温度降低，水分和气体就会附着在冷板上而冷凝成液态，此时冷板周围的气体减少，由于压差的作用，其他地方的气体会陆续向冷板移动，最终将整个腔体内的气体和水分都冷凝成液体，使其内部达到所需的真空度，然而结构存在以下缺点：

1、目前的蒸发工艺腔体利用冷泵提供真空，效率比较低，由于腔体内的基片上间歇性的镀膜，镀膜完成后需要开启将基片取出，因此，整个工艺腔体就会变成常压状态，之后又需要冷泵再次制冷提供真空，因而为了一次制备更多的基片，工艺腔体的体积设置得比较大，这样真空产生的时间非常长；

2、目前的这个工艺腔体在进行真空镀膜时，腔体的内壁上也都会镀上金属膜层，而工艺腔体的内部就会比较脏，难清理；

3、目前的这种工艺腔体是通过一个冷泵抽气管道连接，因此，当内部温度非常低，可能导致工艺腔体内部的一些水分会附着在一些隐藏的角落而不会被抽吸走，这样在进行蒸发时，这些水分就又会气化而直接影响真空镀膜的质量；

4、目前的真空镀膜机一般是有公转和自转的两种方式带动基片的旋转，而采用自转方式旋转时，由于金属蒸气向上逸散时，处于旋转中心和处于外围基片的线速度并不相同，从而导致一批次的基片镀膜的厚度差异会有所波动。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种真空镀膜机，该真空镀膜机真空的形成时间更短。