[实用新型]一种薄膜生长设备

权利要求书

1.一种薄膜生长设备，其特征在于，包括：反应腔室；

所述反应腔室内具有基台和一个或多个出气结构；所述基台用于放置待处理衬底，所述出气结构用于向所述反应腔室内输送反应气体；

所述出气结构具有多个出气口，每个出气口对应一个出气方向，以便多个出气口对应不同的出气方向，将反应气体均匀输送至所述反应腔室，在所述待处理衬底上形成厚度均匀的膜层。

2.根据权利要求1所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气结构包括出气部和输气部，所述出气部具有多个出气口，每个出气口对应一个出气方向，以便多个出气口对应不同的出气方向，所述出气部与所述输气部连接，所述输气部为圆筒结构。

3.根据权利要求2所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气部为中空的圆台结构、中空的棱台结构、中空的棱锥结构、中空的碗形结构、中空的六面体结构或中空的球形结构。

4.根据权利要求3所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气部具有朝向所述反应腔室侧壁的出气口。

5.根据权利要求3所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气部的侧壁具有多个出气口，每个出气口对应一个出气方向。

6.根据权利要求3所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气部靠近所述输气部的一侧表面沿远离所述输气部的方向延伸，所述出气部靠近所述输气部的一侧表面与所述输气部的侧壁形成的夹角范围为95°-110°。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气口的特征尺寸范围为0.1毫米-1毫米。

8.根据权利要求1-6任意一项所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述出气口的形状为圆形。

9.根据权利要求1-6任意一项所述的薄膜生长设备，其特征在于，所述多个出气口在所述出气结构上均匀分布。

10.根据权利要求1-6任意一项所述的薄膜生长设备，其特征在于，还包括：控制器；

所述控制器用于控制输送所述反应气体的输送管道中的通气阀门打开，以便利用所述出气结构向所述反应腔室内输送反应气体。