[实用新型]一种改善plasma效果的治工具

说明书

本实用新型涉及一种改善plasma效果的治工具，其包括治具主体、产品槽、侧盖板、固定槽、端盖槽和端盖；所述产品槽设于治具主体表面，所述侧盖板上设有通孔，所述固定槽设于治具主体侧边，端盖槽设于治具主体两端，所述侧盖板上设有固定耳，本实用新型改善了洗plasma治具的等离子清洗效果，提升了清洗效率，值得推广。

技术领域

本实用新型半导体封装存储类芯片等离子清洗技术领域，尤其涉及一种改善plasma效果的治工具。

背景技术

现有洗plasma治具不能较好的洗出好的plasma效果，治具本身两端有盖子，去掉盖子后，治具侧面没有开孔，plasma设备的氩离子不易进入治具里面的产品上方，导致洗plasma效果不好，模封后易产生分层等异常。

实用新型内容

有鉴于此，提供一种改善洗plasma治具的等离子清洗效果，提升了清洗效率的一种改善plasma效果的治工具。

一种改善plasma效果的治工具，其包括治具主体、产品槽、侧盖板、固定槽、端盖槽和端盖；所述产品槽设于治具主体表面，所述侧盖板上设有通孔，所述固定槽设于治具主体侧边，端盖槽设于治具主体两端，所述侧盖板上设有固定耳。

进一步地，所述产品槽共有两组，两组产品槽并排设于治具主体表面。

进一步地，所述侧盖板共有两块，两块侧盖板分别与治具主体两端活动连接。

进一步地，所述端盖通过固定耳与固定槽配合连接治具主体。

进一步地，所述侧盖板上的通孔为4*6排列。

相对于现有技术，本实用新型的有益效果为，侧盖板上通孔增加了等离子流入通道，使待清洗的产品清洗更彻底，并缩短清洗时间，提升了清洗效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例的改善plasma效果的治工具结构示意图。

图2是本实用新型实施例的改善plasma效果的治工具部分结构示意图。

图3是本实用新型实施例的改善plasma效果的治工具部分结构示意图。

图4是本实用新型实施例的改善plasma效果的治工具部分结构示意图。

图5是本实用新型实施例的改善plasma效果的治工具部分结构示意图。

具体实施方式

以下将结合具体实施例和附图对本实用新型进行详细说明。

请参阅图1-图5，示出本实用新型的一种实施例，一种改善plasma效果的治工具，其包括治具主体20、产品槽21、侧盖板22、固定槽23、端盖槽24和端盖25；所述产品槽21设于治具主体20表面，所述侧盖板22上设有通孔221，所述固定槽23设于治具主体20侧边，端盖槽24设于治具主体20两端，所述侧盖板22上设有固定耳221。

进一步地，作为本实施例的优选，所述产品槽21共有两组，两组产品槽21并排设于治具主体20表面。

进一步地，作为本实施例的优选，所述侧盖板22共有两块，两块侧盖板22分别与治具主体20两端活动连接。

进一步地，作为本实施例的优选，所述端盖25通过固定耳221与固定槽23配合连接治具主体20。

进一步地，作为本实施例的优选，所述侧盖板22上的通孔221为4*6排列。

上述改善plasma效果的治工具的工作原理，将需要清洗的产品放入治具主体20中的产品槽上，将端盖25取下，将治具放入plasma清洗设备中清洗即可。

以上所揭露的仅为本实用新型一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。