[实用新型]一种具有烘干功能的半导体蚀刻机有效

专利信息
申请号: 202122245097.0 申请日: 2021-09-16
公开(公告)号: CN216084810U 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 刘超超;高娟 申请(专利权)人: 上海芯莘科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/306
代理公司: 芜湖市昌强专利代理事务所(特殊普通合伙) 34203 代理人: 周渭铭
地址: 201400 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 烘干 功能 半导体 蚀刻
【权利要求书】:

1.一种具有烘干功能的半导体蚀刻机,包括蚀刻机本体(1),其特征在于:所述蚀刻机本体(1)底部中轴线处设有水泵(2),所述水泵(2)输出端设置有进液管(3),所述进液管(3)的数量设置为两个,两个所述进液管(3)位于蚀刻机本体(1)外壁两侧;

所述蚀刻机本体(1)外壁两侧均设有储水箱(4),两个所述储水箱(4)关于蚀刻机本体(1)中轴线处对称设置,所述进液管(3)贯穿储水箱(4)延伸至储水箱(4)内壁底端,所述储水箱(4)内壁设有喷头(5),所述喷头(5)的数量设置为多个,所述喷头(5)贯穿蚀刻机本体(1)延伸至蚀刻机本体(1)内壁;

所述蚀刻机本体(1)内壁底端设有导流台(9),所述导流台(9)内壁两侧为倾斜设置,所述导流台(9)底部两侧均设有循环导管(10),所述循环导管(10)贯穿导流台(9)延伸至蚀刻机本体(1)底部,所述循环导管(10)与进液管(3)固定连接,所述导流台(9)顶部设有支撑板(12),所述支撑板(12)内壁开设有通孔(13),所述通孔(13)的数量设置为多个,所述支撑板(12)顶部中轴线处设有螺杆(14),所述螺杆(14)外壁活动套接有固定板(21),所述固定板(21)顶部两侧均设有放置台(22);

所述蚀刻机本体(1)内壁顶端设有加热箱(16),所述蚀刻机本体(1)顶部一侧设有风机(17),所述风机(17)输出端设置有导风管(18),所述导风管(18)贯穿蚀刻机本体(1)延伸至加热箱(16)内壁一侧,所述加热箱(16)内壁底端开设有排风口(19),所述排风口(19)的数量设置为多个,所述加热箱(16)内壁设有电热丝(20)。

2.根据权利要求1所述的一种具有烘干功能的半导体蚀刻机,其特征在于:所述喷头(5)外壁两侧均设有定位块(7),所述定位块(7)与蚀刻机本体(1)内壁固定连接,所述喷头(5)外壁两侧均设有转轴(6),所述转轴(6)贯穿定位块(7),所述转轴(6)内壁螺纹连接有固定螺栓(8)。

3.根据权利要求1所述的一种具有烘干功能的半导体蚀刻机,其特征在于:所述蚀刻机本体(1)内壁远离循环导管(10)一侧设有排液管(11),所述排液管(11)位于导流台(9)顶部一侧,所述螺杆(14)贯穿加热箱(16),所述螺杆(14)与加热箱(16)连接处设有第二轴承。

4.根据权利要求1所述的一种具有烘干功能的半导体蚀刻机,其特征在于:所述螺杆(14)贯穿蚀刻机本体(1)延伸至蚀刻机本体(1)顶部,所述螺杆(14)与蚀刻机本体(1)和支撑板(12)连接处均设有第一轴承,所述蚀刻机本体(1)顶部中轴线处设置有电机(15),所述电机(15)输出轴与螺杆(14)相对应。

5.根据权利要求1所述的一种具有烘干功能的半导体蚀刻机,其特征在于:所述放置台(22)截面形状设置为U形,所述放置台(22)内壁一侧设有紧固板(23),所述紧固板(23)外壁一侧设有调节螺栓(24),所述调节螺栓(24)贯穿放置台(22)延伸至放置台(22)外壁一侧,所述调节螺栓(24)与放置台(22)连接处设有第三轴承。

6.根据权利要求1所述的一种具有烘干功能的半导体蚀刻机,其特征在于:所述蚀刻机本体(1)底部设有底座(26),所述底座(26)顶部四角处均固定连接有支撑柱(27),所述支撑柱(27)与蚀刻机本体(1)固定连接,所述蚀刻机本体(1)内壁一侧交接有密封门(25)。

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