[实用新型]一种大产能刻蚀设备有效
申请号: | 202122231291.3 | 申请日: | 2021-09-15 |
公开(公告)号: | CN216413099U | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 秦磊;杨均炎;张忠卫 | 申请(专利权)人: | 南通苏民新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 严志平 |
地址: | 226300 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 产能 刻蚀 设备 | ||
1.一种大产能刻蚀设备,其特征在于:包括产品上料(1)、反应装置(2)、产品下料(3)和花篮(4),所述反应装置(2)内上下方向分别设置有上反应槽(10)和下反应槽(12),所述上反应槽(10)和下反应槽(12)内放置有反应液,所述上反应槽(10)和下反应槽(12)上分别设置有上传动滚轮(11)和下传动滚轮(13),所述反应装置(2)内位于所述下反应槽(12)下方设置有储液箱(17),所述反应装置(2)左右侧面设置有反应液管道(5),所述反应液管道(5)下端接在所述储液箱(17)内,所述反应液管道(5)上部分别与所述上反应槽(10)和下反应槽(12)连通,所述产品上料(1)和产品下料(3)上分别设置有前传输皮带(6)和后传输皮带(16),所述产品上料(1)上位于所述前传输皮带(6)上方设置有水膜装置(9),所述前传输皮带(6)的后端通过前活动中枢(7)与两个前活动输送板(8)前端连接,两个所述前活动输送板(8)后端分别位于所述上传动滚轮(11)前端,所述后传输皮带(16)前端通过后活动中枢(15)与两个后活动输送板(14)后端连接,两个所述后活动输送板(14)前端分别位于所述下传动滚轮(13)后端。
2.根据权利要求1所述的一种大产能刻蚀设备,其特征在于:所述上反应槽(10)和下反应槽(12)的个数为N个,其中N为大于等于2的整数。
3.根据权利要求2所述的一种大产能刻蚀设备,其特征在于:所述上反应槽(10)和下反应槽(12)的个数为3个。
4.根据权利要求1所述的一种大产能刻蚀设备,其特征在于:所述反应液管道(5)与所述上传动滚轮(11)和下传动滚轮(13)之间的间距为15cm。
5.根据权利要求1所述的一种大产能刻蚀设备,其特征在于:所述上反应槽(10)和下反应槽(12)形状大小相同。
6.根据权利要求1所述的一种大产能刻蚀设备,其特征在于:所述上传动滚轮(11)和下传动滚轮(13)形状大小相同。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的