[实用新型]一种光刻胶收集杯清洗装置

说明书

本实用新型属于半导体技术领域，公开了一种光刻胶收集杯清洗装置，包括可旋转的旋转台、清洗盘和喷嘴；清洗盘设置在旋转台上，旋转台旋转时带动清洗盘转动，清洗盘内设有通道，所述清洗盘的侧壁沿转动方向设有多个通孔，所述清洗盘的底部沿转动方向设有多个斜孔，所述斜孔的底部出口朝向所述清洗盘的外侧倾斜，所述通孔和所述斜孔分别与所述通道连通；喷嘴设置在所述清洗盘的下方，用于向所述通道内喷射清洗液。本实用新型通过在清洗盘的侧面设置用于喷射清洗液的通孔，同时在清洗盘的底部设置用于喷射清洗液的斜孔，可实现在收集杯的不同高度向收集杯内壁喷射清洗液，实现自动清洗收集杯内壁残留的光刻胶的同时，提高清洗效果且节省清洗时间。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤指一种光刻胶收集杯清洗装置。

背景技术

在半导体制造过程中，光刻工艺是重要的环节之一，光刻工艺是指在基板上，如在衬底基板上依次经过光刻胶涂布、曝光、显影等处理，将光刻掩膜板上设计好的图案转移到衬底基板表面膜层中的过程，从而在衬底基板上形成光刻图案。

其中，光刻涂布的方法是将衬底基板放置在光刻胶涂布设备的旋转台上，光刻胶喷嘴向衬底基板的上表面中央喷涂光刻胶，旋转台转动带动衬底基板旋转，在离心力的作用下，光刻胶覆盖在整个衬底基板的上表面，形成光刻胶层，在该过程中，部分光刻胶会被甩到旋转台外侧的光刻胶收集杯中，需要对光刻胶收集杯中的残余光刻胶进行清理，否则，在下一次光刻胶涂布时，残余光刻胶会溅落到衬底基板的边缘造成缺陷，影响后续产品的良率。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种光刻胶收集杯清洗装置，可自动清洗收集杯内残留的光刻胶，且清洗效果好、清洗时间短。

本实用新型提供的技术方案如下：

一种光刻胶收集杯清洗装置，包括：

可旋转的旋转台；

清洗盘，设置在所述旋转台上，所述旋转台旋转时带动所述清洗盘转动，所述清洗盘内设有通道，所述清洗盘的侧壁沿转动方向设有多个通孔，所述清洗盘的底部沿转动方向设有多个斜孔，所述斜孔的底部出口朝向所述清洗盘的外侧倾斜，所述通孔和所述斜孔分别与所述通道连通；

喷嘴，设置在所述清洗盘的下方，用于向所述通道内喷射清洗液。

本技术方案中，为减少收集杯内壁残留的光刻胶，一般收集杯对应旋转台处为斜面，从旋转台上的衬底基板甩出的光刻胶会溅射到收集杯的斜面上，使溅射到斜面上的光刻胶大部分会掉落到收集杯的底部，减少收集杯上残留的光刻胶。但是，随着一天的长时间使用，收集杯的竖直面上仍然堆积了较多的光刻胶，因此，本技术方案通过在清洗盘的侧面设置多个通孔，多个通孔可直接喷射清洗液到收集杯的斜面上对光刻胶进行清洗，同时，清洗盘的底部还设置有多个斜孔，多个斜孔可直接喷射清洗液到收集杯的竖直面上，以对竖直面上的光刻胶进行清洗，进而使清洗更全面、更干净，且清洗时间短。

进一步优选地，所述清洗盘的底部设有开口，所述开口与所述通道相通，所述喷嘴对应所述开口设置，所述喷嘴喷射的清洗液从所述开口处进入所述通道内。

进一步优选地，所述清洗盘包括上清洗盘和下清洗盘，所述上清洗盘与所述下清洗盘固定连接，所述通道位于所述上清洗盘与所述下清洗盘之间。

进一步优选地，所述下清洗盘包括侧板和底板，所述侧板围设在所述底板的外边缘，所述上清洗盘盖设在所述侧板上，所述底板为环形，环形的所述底板的内侧形成所述开口，所述上清洗盘与所述底板之间形成所述通道，所述旋转台穿过所述开口并与所述上清洗盘连接。

进一步优选地，所述通孔设置在所述侧板上，所述斜孔设置在所述底板上。

进一步优选地，所述侧板的内侧壁向内侧凸出设有连接部，所述上清洗盘与所述连接部螺纹连接，所述连接部位于相邻的两个所述通孔之间。