[实用新型]一种双工位晶圆片缺陷检测仪有效
申请号: | 202122174261.3 | 申请日: | 2021-09-09 |
公开(公告)号: | CN215493249U | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 曹晓光 | 申请(专利权)人: | 涌淳半导体(无锡)有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01 |
代理公司: | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 孙力坚 |
地址: | 214000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双工 位晶圆片 缺陷 检测 | ||
本实用新型公开了一种双工位晶圆片缺陷检测仪,包括底座,所述底座顶部中间位置固定安装有固定块,所述固定块顶部固定安装有工作台,所述工作台顶部两侧固定安装有第一放置台,所述工作台中间位置两侧滑动设置有与第一放置台相匹配的第二放置台,所述第一放置台与第二放置台顶部均设置有防护垫。本实用新型通过转动第二旋转柄带动齿轮转动,从而带动了齿条上的第一L型移动杆与第二L型移动杆向两侧打开,这样同时实现了带动了底部镭射光发射器的移动,从而实现了可以左右调节镭射光发射器对晶圆流片顶端进行镭射光束发射的位置,提高镭射光束在晶圆流片顶端的照射范围,方便更换检测位置,降低使用局限性,减少人为因素。
技术领域
本实用新型涉及晶圆片检测设备技术领域,具体为一种双工位晶圆片缺陷检测仪。
背景技术
众所周知,晶圆片表面缺陷检测装置是一种用于生产加工后的晶圆片,对其表面进行瑕疵检测,检测晶圆上是否存在微尘粒子、刮痕、残留物等问题,以便于生产出合格的晶圆片的辅助装置,其在晶圆片检测的领域中得到了广泛的使用;现有的晶圆片表面缺陷检测装置包括检测台、镭射光发射器和侦测器。
现有双工位晶圆片缺陷检测仪,大多通过人工直接操作镭射光发射器向晶圆片表面进行照射,镭射光束稳定性较差,光束位置不可控,同时晶圆片在检测台上的稳定性较差,从而影响镭射光束在晶圆片表面上的照射检测结果。因此,设计一种双工位晶圆片缺陷检测仪是很有必要的。
实用新型内容
针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本实用新型提供一种双工位晶圆片缺陷检测仪,有效的解决了大多通过人工直接操作镭射光发射器向晶圆片表面进行照射,镭射光束稳定性较差,光束位置不可控,同时晶圆片在检测台上的稳定性较差,从而影响镭射光束在晶圆片表面上的照射检测结果的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:包括底座,所述底座顶部中间位置固定安装有固定块,所述固定块顶部固定安装有工作台,所述工作台顶部两侧固定安装有第一放置台,所述工作台中间位置两侧滑动设置有与第一放置台相匹配的第二放置台,所述第一放置台与第二放置台顶部均设置有防护垫,所述工作台一端转动设置有第一旋转柄,所述底座一侧固定安装有支撑杆,所述支撑杆顶部固定安装有承载台,所述承载台底部中间位置两侧滑动设置有镭射光发射器,所述工作台外侧中间位置转动设置第二旋转柄。
优选的,所述第二放置台底部均安装有滑块,所述工作台顶部两侧开设有与滑块相匹配的滑槽。
优选的,所述滑槽内部转动设置有滑块螺纹连接的双向丝杆,所述双向丝杆一端与第一旋转柄固定连接。
优选的,所述镭射光发射器顶部均设置有活动块,所述承载台底部开设有与与活动块相匹配的活动槽。
优选的,所述活动槽内部滑动设置第一L型移动杆与第二L型移动杆,所述第一L型移动杆与第二L型移动杆相对设置,所述第一L型移动杆表面开设有与第二L型移动杆相匹配的通槽。
优选的,所述第一L型移动杆与第二L型移动杆相邻一侧固定设置有齿条,所述活动槽内部中间位置转动设置有与齿条相互啮合的齿轮,所述齿条一端与第二旋转柄固定连接。
本实用新型的有益效果为:
1、通过转动第二旋转柄带动齿轮转动,由于齿轮与齿条相互啮合,从而带动了齿条上的第一L型移动杆与第二L型移动杆向两侧打开,此时通过活动块与活动槽相互配合,从而提高了第一L型移动杆与第二L型移动杆移动的稳定性,这样同时实现了带动了底部镭射光发射器的移动,从而实现了可以左右调节镭射光发射器对晶圆流片顶端进行镭射光束发射的位置,提高镭射光束在晶圆流片顶端的照射范围,方便更换检测位置,降低使用局限性,减少人为因素。
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