[实用新型]真空加热装置及真空加热系统

权利要求书

1.一种用于真空加热的加热装置，其特征在于，包括：

激光加热机构，包括至少一个用于发射激光光束以对真空腔室内的目标进行不接触加热的激光发生器；以及

温度测控机构，与所述激光发生器连接，用于测量所述目标的温度并基于所测量的温度控制所述至少一个激光发生器的输出功率。

2.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述激光加热机构还包括调焦镜头，用于将所述激光发生器发射的所述激光光束聚焦在所述目标上。

3.根据权利要求2所述的加热装置，其特征在于，所述调焦镜头通过光纤与所述激光发生器的输出端连接，并且所述激光加热机构还包括镜头支架。

4.根据权利要求3所述的加热装置，其特征在于，所述镜头支架包括第一固定法兰和与所述第一固定法兰可调节地连接的第一活动法兰，所述第一活动法兰用于承载所述调焦镜头以调节所述调焦镜头的焦点。

5.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述激光加热机构还包括水冷机，与所述至少一个激光发生器连接，用于对所述至少一个激光发生器降温。

6.根据权利要求5所述的加热装置，其特征在于，所述激光发生器包括进水口和出水口，所述水冷机包括吸水口和排水口，所述吸水口与所述出水口连通，所述排水口与所述进水口连通，使所述水冷机与所述激光发生器之间形成水循环。

7.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述温度测控机构包括：

红外测温仪，用于测量所述目标的温度；以及

控制器，与所述红外测温仪连接并且用于基于所述目标的温度调节所述至少一个激光发生器中的一个或多个激光发生器的输出功率。

8.根据权利要求7所述的加热装置，其特征在于，所述控制器安装在所述至少一个激光发生器中。

9.根据权利要求7所述的加热装置，其特征在于，所述温度测控机构还包括用于承载所述红外测温仪的测温支架，所述测温支架包括第二固定法兰和与所述第二固定法兰可调节地连接的第二活动法兰，所述第二活动法兰用于承载所述红外测温仪以调节所述红外测温仪的位置。

10.一种真空加热系统，包括：

真空腔室，包括至少一个视窗；以及

如权利要求1-9中任一项所述的加热装置，所述激光加热机构通过所述至少一个视窗中的一个或多个视窗对所述真空腔室中的目标进行加热，并且温度测控机构通过所述至少一个视窗之一对所述真空腔室中的目标进行测温。