[实用新型]一种两级翻转粉体表面磁控溅射沉积涂层装置

说明书

一种两级翻转粉体表面磁控溅射沉积涂层装置。本实用新型为了解决已有粉体表面磁控溅射沉积涂层工艺存在粉体团聚和表面涂层不均匀等问题。本实用新型包括叶片、伺服电机、筒体、栅网档板、挡板移动杆、塑料联轴器、转轴滑动密封结构、粉体挡板、大转盘、叶片转动齿轮、大转盘齿轮等，叶片实现两级翻转运动。本实用新型具有粉体充分悬浮、涂层均匀、结合力强等特点。本实用新型属于真空物理气相沉积领域。

技术领域

本实用新型涉及一种两级翻转粉体表面磁控溅射沉积涂层装置，属于真空物理气相沉积领域。

背景技术

粉体是一种以颗粒形态存在的材料，被广泛应用于增材制造、材料制备等领域。粉体表面改性能够赋予其具有极化、导电性、导热性、活性等功能性。目前，粉体的表面改性方法比较多，例如包括：真空蒸发法、磁控溅射、水热法、电镀法等。

磁控溅射沉积是一种在真空环境下获得涂层的物理气相沉积技术，该方法具有工艺简单、膜层体系广和膜基结合力强等特点，该技术被广泛地用于制备超硬、耐磨、自润滑、超导、抗腐蚀、装潢及3C产品等薄膜。

目前，磁控溅射沉积技术主要用于类似于“板”形基体的涂层沉积。由于粉体粒径小和比表面积大的特性导致粉体容易团聚，导致粉体表面磁控溅射沉积涂层工艺稳定性较差，因此，利用磁控溅射技术在粉体表面制备工艺稳定的均匀涂层具有重要意义。

实用新型内容

针对已有粉体表面磁控溅射沉积涂层工艺存在粉体团聚和表面涂层不均匀等问题，本实用新型提供一种两级翻转粉体表面磁控溅射沉积涂层装置，具有粉体充分悬浮、涂层均匀、结合力强等特点。

本实用新型为解决上述问题采取的技术方案是：

本实用新型公开了一种两级翻转粉体表面磁控溅射沉积涂层装置，本实用新型包括叶片1、粉体2、伺服电机3、筒体4、栅网档板5、挡板移动杆6、挡板滑动密封结构7、磁控电源8、偏压电源9、阴极靶10、真空腔室11、真空泵组12、筒体支撑件13、进气口14、球形架15、塑料联轴器16、转轴滑动密封结构17、粉体挡板18、大转盘19、叶片转动齿轮20、大转盘齿轮21、大转盘轴承22、叶片转动轴承23、转轴24、叶片转轴25。

所述粉体2位于筒体4内，筒体4通过轴承键槽固定安装在转轴24上，大转盘轴承22通过轴承键槽固定安装在转轴24上，大转盘19通过大转盘轴承22可拆卸安装在转轴24上，大转盘齿轮21通过轴承键槽固定安装在转轴24上，叶片转动齿轮20通过轴承键槽固定安装在叶片转轴25上，叶片转轴25过盈配合安装叶片转动轴承23的内径上，叶片转动轴承23固定安装在大转盘19上，叶片1可拆卸安装在叶片转轴25上，栅网档板5与挡板移动杆6可拆卸连接，栅网档板5盖在筒体4右侧面上，粉体挡板18固定连接在筒体4的右侧出口位置，球形架15通过聚四氟乙烯内衬与筒体4接触支撑，球形架15可拆卸安装在筒体支撑件13上，进气口14固定安装在真空腔室11侧壁上，叶片转动齿轮20与大转盘齿轮21之间接触咬合，叶片转动齿轮20通过大转盘齿轮21转动而发生转动，伺服电机3通过塑料联轴器16带动转轴24发生转动，栅网档板5通过挡板移动杆6实现筒体4遮挡和敞开，粉体挡板18避免筒体4底部的粉体2溢出，转轴24通过转轴滑动密封结构17与真空腔室11实现真空密封运动，挡板移动杆6通过挡板滑动密封结构7与真空腔室11实现真空密封运动，所述阴极靶10可拆卸安装在真空腔室11侧壁上，磁控电源8的阴极和阳极分别连接阴极靶10和真空腔室11，所述偏压电源9的阴极和阳极分别连接筒体支撑件13和真空腔室11，所述真空腔室11连接大地，所述真空泵组12对真空腔室11抽真空，所述工作气体通过进气口14进入真空腔室11。

进一步的是，所述叶片1实现两级翻转运动。

进一步的是，所述阴极靶10为Ti、Cr、TiAl、石墨等。