[实用新型]一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置

说明书

本实用新型涉及光刻机领域，尤其是涉及一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置，包括降温箱和铰接在降温箱一侧外壁的箱门，所述降温箱的顶部外壁安装有安装架，且安装架中安装有气泵，所述气泵的输出端连接有连接管，且连接管的另一端连接有收集结构，所述降温箱的两侧外壁均连接有进气组件，所述箱门靠近降温箱的一侧外壁焊接有密封圈，且气泵的输入端与降温箱内部连通。本实用新型降温箱内部的液氦会向上飘，降温箱两边的进气组件将过滤后的空气带入降温箱中，收集后的混合气体，通过提纯后进行再次使用，相比于传统方式，有利于提高氦气的回收率，有利于减少成本，有利于减少稀有气体的浪费，节约资源。

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，光刻机中需要对硅片进行液氦降温，传统的降温方式会造成大量氦气浪费，造成资源浪费和提高制造成本。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置，包括降温箱和铰接在降温箱一侧外壁的箱门，所述降温箱的顶部外壁安装有安装架，且安装架中安装有气泵，所述气泵的输出端连接有连接管，且连接管的另一端连接有收集结构，所述降温箱的两侧外壁均连接有进气组件，所述箱门靠近降温箱的一侧外壁焊接有密封圈，且气泵的输入端与降温箱内部连通。

优选的，所述收集结构包括罐体、两端固定在罐体顶部和底部内壁的导管、连接在罐体顶部中心处的连接头、滑动在罐体内壁的滑块、固定在滑块顶部和底部外壁的密封橡胶和焊接在罐体顶部外壁中心处的伸缩杆。

优选的，所述伸缩杆的底端外壁与滑块的中心处外焊接，且连接头的一端与导管连接，所述导管的底端开设有出气孔，且连接头中安装有阀门，所述滑块和密封橡胶开设有与导管相适配的圆孔。

优选的，所述进气组件包括连接在降温箱两端外壁的进气管、安装在进气管另一端的过滤管、套接在过滤管中的过滤网和套接在过滤管中的过滤棉。

优选的，所述降温箱的底部内壁四角焊接有支撑弹簧，且支撑弹簧的顶部焊接有支撑板。

优选的，所述气泵通过导线连接开关，且开关通过导线连接电源，所述箱门的一侧外壁焊接有把手。

本实用新型的有益效果为：

1、使用时，将硅片等放置在支撑板上，支撑弹簧和支撑板对硅片等进行支撑，在降温箱内部进行液氦冷却，关闭箱门，冷却结束后启动气泵，抽取内部的气体通过连接管输送进收集结构中，连接管中的气体通过连接头和导管输送至罐体的底部，滑块在进入氦气和空气混合的压力下向上移动，压缩罐体位于滑块顶部的空气，降温箱内部的液氦会向上飘，降温箱两边的进气组件将过滤后的空气带入降温箱中，收集后的混合气体，通过提纯后进行再次使用，相比于传统方式，有利于提高氦气的回收率，有利于减少成本，有利于减少稀有气体的浪费，节约资源。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置的整体结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置的背部结构示意图；

图3为本实用新型提出的一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置的主视结构示意图；

图4为本实用新型提出的一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置的罐体内部结构示意图；

图5为本实用新型提出的一种光刻机领域液氦冷却后氦气的回收装置的进气结构结构示意图。