[实用新型]一种使用于晶体炉的电极法兰有效

专利信息
申请号: 202122112884.8 申请日: 2021-09-02
公开(公告)号: CN215593239U 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: 史晓莉;戴永成;戴永丰 申请(专利权)人: 浙江臻强精密机械股份有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B28/12;C30B29/06;C30B29/36;F16B1/02
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 燕宏伟
地址: 314100 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 使用 晶体 电极 法兰
【权利要求书】:

1.一种使用于晶体炉的电极法兰,用于将一电极组件安装于一晶体炉盖板上,其特征在于:所述晶体炉盖板上开设有两个电极安装孔,所述电极安装孔的周向外侧设置有卡接槽,所述卡接槽上开设有至少两个螺纹孔,电极组件中设置有冷却流道,所述使用于晶体炉的电极法兰包括一个固定环,所述固定环的中部开设有一个电极通孔,所述固定环上于电极通孔的周围间隔设置有至少两个固定块,两个相邻的固定块之间形成有流道槽,所述固定块上贯穿开设有安装孔,安装孔进一步贯穿固定环,所述安装孔与螺纹孔相对,所述固定块覆盖在晶体炉盖板的螺纹孔上,至少一个流道槽与冷却流道的入口连通,至少一个流道槽与冷却流道的出口连通。

2.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述固定块的形状为扇形。

3.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述螺纹孔、固定块及流道槽的数量均为四个,四块所述固定块之间的间隔距离相同。

4.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述固定块的外径尺寸小于所述固定环主体的外径尺寸。

5.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述电极通孔朝向所述固定块的端面上设置有阶梯槽,所述阶梯槽深度为0.5~1mm。

6.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述固定环的厚度为8~10mm。

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