[实用新型]一种使用于晶体炉的电极法兰有效
申请号: | 202122112884.8 | 申请日: | 2021-09-02 |
公开(公告)号: | CN215593239U | 公开(公告)日: | 2022-01-21 |
发明(设计)人: | 史晓莉;戴永成;戴永丰 | 申请(专利权)人: | 浙江臻强精密机械股份有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B28/12;C30B29/06;C30B29/36;F16B1/02 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 燕宏伟 |
地址: | 314100 浙江省嘉*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 使用 晶体 电极 法兰 | ||
1.一种使用于晶体炉的电极法兰,用于将一电极组件安装于一晶体炉盖板上,其特征在于:所述晶体炉盖板上开设有两个电极安装孔,所述电极安装孔的周向外侧设置有卡接槽,所述卡接槽上开设有至少两个螺纹孔,电极组件中设置有冷却流道,所述使用于晶体炉的电极法兰包括一个固定环,所述固定环的中部开设有一个电极通孔,所述固定环上于电极通孔的周围间隔设置有至少两个固定块,两个相邻的固定块之间形成有流道槽,所述固定块上贯穿开设有安装孔,安装孔进一步贯穿固定环,所述安装孔与螺纹孔相对,所述固定块覆盖在晶体炉盖板的螺纹孔上,至少一个流道槽与冷却流道的入口连通,至少一个流道槽与冷却流道的出口连通。
2.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述固定块的形状为扇形。
3.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述螺纹孔、固定块及流道槽的数量均为四个,四块所述固定块之间的间隔距离相同。
4.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述固定块的外径尺寸小于所述固定环主体的外径尺寸。
5.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述电极通孔朝向所述固定块的端面上设置有阶梯槽,所述阶梯槽深度为0.5~1mm。
6.如权利要求1所述的使用于晶体炉的电极法兰,其特征在于:所述固定环的厚度为8~10mm。
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