[实用新型]一种薄膜吸气剂结构有效
| 申请号： | 202122106059.7 | 申请日： | 2021-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN215756430U | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 赵龙;杨晓杰;李海涛;姚浩强;高玉波;赵雪城 | 申请（专利权）人： | 安徽光智科技有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/00 | 分类号： | B81B7/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人： | 朱伟雄 |
| 地址： | 239064 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 吸气 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜吸气剂结构，其特征在于，包括衬底和薄膜吸气剂，所述衬底上具有凹槽腔体，所述凹槽腔体内壁为密集多孔结构，所述密集多孔结构上设有薄膜吸气剂，所述薄膜吸气剂钉设于密集多孔结构的孔隙中。
2.根据权利要求1所述的薄膜吸气剂结构，其特征在于，所述衬底上具有凹槽腔体一侧的表面和凹槽腔体底面也为密集多孔结构，所述薄膜吸气剂钉设于密集多孔结构的孔隙中。
3.根据权利要求1或2所述的薄膜吸气剂结构，其特征在于，所述薄膜吸气剂呈铆钉状钉设于所述密集多孔结构的孔隙中。
4.根据权利要求1或2所述的薄膜吸气剂结构，其特征在于，所述薄膜吸气剂通过沉积钉设于所述密集多孔结构上。
5.根据权利要求1或2所述的薄膜吸气剂结构，其特征在于，所述衬底为硅衬底。
6.根据权利要求1或2所述的薄膜吸气剂结构，其特征在于，所述密集多孔结构的孔隙直径为200nm～2μm；所述密集多孔结构的孔隙深度为200nm～5μm。
7.根据权利要求1或2所述的薄膜吸气剂结构，其特征在于，所述薄膜吸气剂的厚度为微米级。
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