[实用新型]单片式射频等离子扫胶设备

权利要求书

1.单片式射频等离子扫胶设备，包括设备主体（1），其特征在于：所述设备主体（1）上主要包括片盒放置机构（2）、晶圆搬运机器人（3）、圆片校正机构（4）和真空反应腔体系统（5）。

2.根据权利要求1所述的单片式射频等离子扫胶设备，其特征在于，所述片盒放置机构（2）包括安装架（21）、固定卡板（22）、移动卡板（23）和片盒（24）；所述安装架（21）的顶部一端可拆卸安装有所述固定卡板（22），另一端可拆卸锁紧有所述移动卡板（23），所述固定卡板（22）和所述移动卡板（23）之间卡紧有所述片盒（24）；

且所述固定卡板（22）的两端均对称开设有若干阶梯卡槽（25），所述移动卡板（23）上开设有两个平行的腰型槽（26），所述安装架（21）的顶部上开设有与所述腰型槽（26）相配合锁紧的一字型槽（27），两个所述一字型槽（27）呈八字型对称分布设置。

3.根据权利要求1所述的单片式射频等离子扫胶设备，其特征在于，所述晶圆搬运机器人（3）的机械臂（31）采用陶瓷手臂材质制成，且所述机械臂（31）的最外端顶部开设有真空吸附槽（32），所述真空吸附槽（32）开设的数量至少为两个，呈由内至外的环形槽结构依次设置。

4.根据权利要求1所述的单片式射频等离子扫胶设备，其特征在于，所述圆片校正机构（4）包括校正架（41）和校正板（42）；所述校正架（41）的顶部周向设有若干所述校正板（42），每个所述校正板（42）的顶部由上至下依次开设有若干阶梯放置槽（43）。

5.根据权利要求1所述的单片式射频等离子扫胶设备，其特征在于，所述真空反应腔体系统（5）包括射频电离室（51）、真空反应腔（52）和自动开关门机构（53）；所述真空反应腔（52）的顶部设有所述射频电离室（51），所述射频电离室（51）的内部包括石英腔（511）、射频正极（512）、射频负极（513）和绝缘片（514）；

所述石英腔（511）的外壁上周向设有绝缘片（514），所述绝缘片（514）上连接有所述射频正极（512），所述射频正极（512）包括环形正极圈和正极片，所述环形正极圈的内壁周向设有所述正极片；所述射频负极（513）包括环形负极圈和负极片，所述环形负极圈嵌设于所述石英腔（511）的外壁上，所述环形负极圈的顶部周向设有所述负极片，所述正极片和所述负极片之间均匀交错设置。

6.根据权利要求5所述的单片式射频等离子扫胶设备，其特征在于，所述真空反应腔（52）与所述石英腔（511）相连通，所述石英腔（511）的顶部设置连通有进气管（515），所述真空反应腔（52）包括铝制腔体（521）、分层石英盘（522）、加热台（523）、圆片托起机构（524）和真空计（525）；所述铝制腔体（521）的内腔上部嵌设有所述分层石英盘（522），所述铝制腔体（521）的内腔下部设有所述加热台（523），所述铝制腔体（521）上还设有所述真空计（525），所述真空计（525）的检测端位于所述铝制腔体（521）内部。

7.根据权利要求6所述的单片式射频等离子扫胶设备，其特征在于，所述石英腔（511）的内腔顶部还包括设置的与所述进气管（515）相连通的布气盘（516），所述布气盘（516）的底部呈弧形球面结构设置，且所述布气盘（516）的弧形球面上均匀开设有若干第一布气孔；

所述分层石英盘（522）包括至少两层石英盘结构，且所述分层石英盘（522）上均匀开设有若干第二布气孔；

所述真空反应腔（52）上还包括设置的抽真空管路（526）和安装于所述抽真空管路（526）上的真空蝶阀（527）。