[实用新型]三室磁控溅射镀膜装置

说明书

本实用新型公开一种三室磁控溅射镀膜装置，三室磁控溅射镀膜装置包括运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动，所述前室与所述镀膜室之间设置有阻挡装置，所述阻挡装置用于阻挡所述镀膜通道以使所述前室和镀膜室为单独的密封腔室，本实用新型技术方案可以通过隔断本体将前室和镀膜室进行隔断密封或进行开启连通从而提高了密封性。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种三室磁控溅射镀膜装置。

背景技术

一般在连续式的真空镀膜设备中，由于各个腔体的功能有所不同，其所需要的真空度亦有所差异，因此腔体与腔体之间需要隔开，避免各腔体在作业时产生相互干扰的情形。由于镀膜过程必须在真空环境下进行，因此该插板阀的阀门板必须紧闭、密合，否则一旦有真空度不佳的现象发生，镀膜过程势必发生瑕疵而造成整批工件良品率不足的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种三室磁控溅射镀膜装置，旨在解决上述技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种三室磁控溅射镀膜装置包括运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动，所述前室与所述镀膜室之间设置有阻挡装置，所述阻挡装置用于阻挡所述镀膜通道以使所述前室和镀膜室为单独的密封腔室。

在本实施例中，所述运转机构包括公转组件和自转组件，所述工件转架设有多个自转轴，所述工件转架通过公转组件转动，所述自转轴通过自转组件转动。

在本实施例中，所述传送部设有传送机构，所述传送机构设有第一移动单元和第二移动单元，所述工件转架通过第一移动单元传送至前室，所述工件转架通过第二移动单元传送至前室。

在本实施例中，所述第一移动单元设有第一驱动组件、滑轨和滑块，所述滑轨滑设于滑轨上；移动时，所述工件转架位于滑块上，所述第一驱动组件驱动工件转架沿滑轨移动。

在本实施例中，所述第二移动单元设有移动架、第二驱动组件，移动时，所述工件转架位于第二驱动组件上，所述第二驱动组件安装于移动架上，所述第一驱动组件驱动移动架移动，带动工件转架移动；所述第二驱动组件驱动工件转架移动至前室

在本实施例中，所述阻挡装置包括隔断本体以及驱动机构，所述驱动机构与所述隔断本体连接以驱动所述隔断本体进行上下移动。

在本实施例中，所述隔断本体包括阀体、阀门以及驱动电机，所述阀体上开设有通孔，所述通孔将所述镀膜室和所述镀膜室连通，所述阀门设置在所述通孔处并与所述驱动电机连接，以使所述驱动电机驱动所述阀门关闭或开启所述通孔。

在本实施例中，所述隔断本体还包括连接部，所述连接部设置在所述阀体的顶部并与所述驱动机构连接。

在本实施例中，所述驱动机构包括两个驱动单元，两个所述驱动单元分设在所述阀体的两侧并均与所述阀体连接。

在本实施例中，所述驱动单元包括驱动本体以及输出轴，所述输出轴与所述连接部连接，所述驱动本体与所述输出轴连接以驱动所述输出轴沿其自身延伸方向延伸。

本实用新型的技术方案中，通过将隔断本体设置在磁控溅射镀膜机的前室和镀膜室之间，从而可以通过隔断本体将前室和镀膜室进行隔断密封或进行开启连通，另外，该隔断装置还包括与隔断本体连接的驱动机构，驱动机构能够驱动隔断本体进行上下移动，从而使得隔断本体的最顶端与地面的距离可以进行调节，使得隔断本体能够适配不同的前室和镀膜室的配合，因此能够提高隔断本体的兼容性，使得该隔断装置能够用于多种不同高度或不同型号的工室之间。

附图说明