[实用新型]三室磁控溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述三室磁控溅射镀膜装置包块运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动，所述前室与所述镀膜室之间设置有阻挡装置，所述阻挡装置用于阻挡所述镀膜通道以使所述前室和镀膜室为单独的密封腔室。

2.根据权利要求1所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述运转机构包括公转组件和自转组件，所述工件转架设有多个自转轴，所述工件转架通过公转组件转动，所述自转轴通过自转组件转动。

3.根据权利要求2所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述传送部设有传送机构，所述传送机构设有第一移动单元和第二移动单元，所述工件转架通过第一移动单元传送至前室，所述工件转架通过第二移动单元传送至前室。

4.根据权利要求3所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一移动单元设有第一驱动组件、滑轨和滑块，所述滑轨滑设于滑轨上；移动时，所述工件转架位于滑块上，所述第一驱动组件驱动工件转架沿滑轨移动。

5.根据权利要求4所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第二移动单元设有移动架、第二驱动组件，移动时，所述工件转架位于第二驱动组件上，所述第二驱动组件安装于移动架上，所述第一驱动组件驱动移动架移动，带动工件转架移动；所述第二驱动组件驱动工件转架移动至前室。

6.根据权利要求1所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述阻挡装置包括隔断本体以及驱动机构，所述驱动机构与所述隔断本体连接以驱动所述隔断本体进行上下移动。

7.根据权利要求6所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述隔断本体包括阀体、阀门以及驱动电机，所述阀体上开设有通孔，所述通孔将所述镀膜室和所述镀膜室连通，所述阀门设置在所述通孔处并与所述驱动电机连接，以使所述驱动电机驱动所述阀门关闭或开启所述通孔。

8.根据权利要求7所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述隔断本体还包括连接部，所述连接部设置在所述阀体的顶部并与所述驱动机构连接。

9.根据权利要求8所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述驱动机构包括两个驱动单元，两个所述驱动单元分设在所述阀体的两侧并均与所述阀体连接。

10.根据权利要求9所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述驱动单元包括驱动本体以及输出轴，所述输出轴与所述连接部连接，所述驱动本体与所述输出轴连接以驱动所述输出轴沿其自身延伸方向延伸。