[实用新型]一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源有效
申请号: | 202121962040.6 | 申请日: | 2021-08-20 |
公开(公告)号: | CN216237250U | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 吕忠毅;梁寅平 | 申请(专利权)人: | 大连派立特电子科技发展有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;H02M1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116000 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 防误触 结构 直流 磁控溅射 电源 | ||
本实用新型公开了一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源,包括保护外壳、隔离握持机构、滑动保护机构和内置散热机构,其特征在于:所述保护外壳的两侧设置有隔离握持机构,所述保护外壳的内部设置有滑动保护机构,所述滑动保护机构的内部设置有内置散热机构。该具有防误触结构的直流磁控溅射电源,由于保护外壳与底座之间的固定连接,可通过保护外壳和底座的存在为内部电源提供全方位的保护,而沿着保护外壳两侧内壁对称分布的通风孔可方便内置散热机构的散热功能正常运行,在放置收纳过程中,经过隔离握持机构让电源在遇到颠簸环境和受冲击过程中能够得到一定的保护,让电源的耐用性加强,避免使用者与电源进行直接接触,减少静电的伤害。
技术领域
本实用新型涉及直流磁控溅射领域,具体为一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源。
背景技术
直流磁控溅射是物理气相沉积的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤,而直流磁控溅射电源工作于高频变换模式,直流输出,电源电流调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现。
目前市面上直流磁控溅射电源在使用中,由于电源内部直流压力存在浮动,导致电源时常存在静电反应,在放置或认为使用的过程中,经常会对附近的仪器和触碰的人员造成伤害,为此,我们提出一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源,以解决上述背景技术中提出的由于电源内部直流压力存在浮动,导致电源时常存在静电反应,在放置或认为使用的过程中,经常会对附近的仪器和触碰的人员造成伤害的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种具有防误触结构的直流磁控溅射电源,包括保护外壳、隔离握持机构、滑动保护机构和内置散热机构,所述保护外壳的两侧设置有隔离握持机构,所述保护外壳的内部设置有滑动保护机构,所述滑动保护机构的内部设置有内置散热机构;
所述滑动保护机构包括:
内置电源,其设置于所述保护外壳的内部;
滑槽,其设置于所述内置电源的两侧内壁;
拉槽,其设置于所述内置电源的一侧额内壁;
操作面,其设置于所述内置电源的顶面外壁。
优选的,所述内置电源通过滑槽与保护外壳构成滑动结构,且拉槽与内置电源之间为固定连接。
优选的,所述保护外壳包括:
通风孔,其设置于所述保护外壳的两侧外壁;
底座,其设置于所述保护外壳的底端外壁。
优选的,所述保护外壳与底座之间为固定连接,且通风孔沿着保护外壳两侧内壁对称分布。
优选的,所述隔离握持机构包括:
隔离支架,其设置于所述底座的顶面两侧;
握柄,其设置于所述隔离支架的顶端;
底垫,其设置于所述底座的底端外壁。
优选的,所述底垫四周尺寸与底座四周尺寸相匹配,且隔离支架与握柄、底座之间为固定连接。
优选的,所述内置散热机构包括:
电源内室,其设置于所述滑动保护机构的内部;
电机,其设置于所述电源内室的两侧;
扇叶,其连接于所述电机的一端;
散热孔,其设置于所述滑动保护机构的两侧内壁。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连派立特电子科技发展有限公司,未经大连派立特电子科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121962040.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有挡边结构的毛绒玩具加工用充绒机
- 下一篇:一种预制板组合式叠放架
- 同类专利
- 专利分类