[实用新型]一种双管芯合封的共源共栅SiC功率器件有效

专利信息
申请号: 202121689246.6 申请日: 2021-07-23
公开(公告)号: CN215418167U 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 彭虎;杜睿;卢烁今 申请(专利权)人: 苏州华太电子技术有限公司
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L29/78;H01L21/50
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 艾中兰;王锋
地址: 215000 江苏省苏州市工*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双管 芯合封 共源共栅 sic 功率 器件
【说明书】:

实用新型公开了一种双管芯合封的共源共栅SiC功率器件,其中包含合封的SiC‑JFET管芯和Si‑LDMOS管芯,Si‑LDMOS管芯的漏极与SiC‑JFET管芯的源极相连,SiC‑JFET管芯的漏极从背面引出,作为SiC功率器件成品的漏极引出,Si‑LDMOS管芯的栅极引出作为SiC功率器件成品的栅极引出,Si‑LDMOS管芯的源极从背面引出,与SiC‑JFET管芯的栅极相连并引出作为SiC功率器件成品的源极引出。本实用新型提出了一种新封装结构,通过加大引线框架面积,将Si‑LDMOS管芯焊接在框架上,相应PIN脚直接引出,最大程度降低封装的共源极寄生电感。本实用新型通过若干优化封装方案,显著降低合封器件的源极寄生电感,提升SiC功率器件的开关性能。

技术领域

本实用新型属于功率器件技术领域,具体涉及一种双管芯合封的共源共栅SiC功率器件。

背景技术

目前,常规的共源共栅结构的碳化硅(Cascode SiC)功率器件,通常采用Si-VDMOS(Vertical-Diffused Metal-Oxide-Semiconductor,垂直扩散金属氧化物半导体场效应晶体管) 器件与SiC-JFET(碳化硅结型场效应管)进行双管芯合封。其对应的常规结构的VDMOS器件,其漏极通常由背面引出(Drain-down),而栅极、源极分布于管芯的另一侧,很难通过单基岛和框架结构直接将MOS器件的源极引出到外部。而通常通过背面金属化、焊接等一系列工艺将相应电极通过基板引出外部的方法,可以获得较低的封装寄生串联电阻和封装寄生串联电感;这就意味着采用VDMOS器件进行合封设计的Cascode SiC功率器件,其源极串联电感、电阻通常较高。对于常规的平面封装方案,可以通过采用双基岛结构实现Cascode连接方式(即 Si-MOS管的漏端(Drain)需要与SiC-JFET器件的源端(Source)相连,MOS器件的源极(Source) 需要与JFET器件的栅极(Gate)相连),常规SiC功率器件方案采用四组bonding线(键合线,其中与功率回路相关的bonding线两组),并同时需要借助双基岛,才能够实现所需的电气连接。方案相对复杂,主功率回路电流路径交错曲折,封装引入的寄生杂散较大,这在很大程度上限制了封装后成品器件的整体性能(如器件的开关速度、开关振荡等性能)。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种双管芯合封的共源共栅SiC功率器件,从而克服现有技术的不足。

为实现前述目的,本实用新型采用的技术方案包括:一种双管芯合封的共源共栅SiC功率器件,其特征在于,所述SiC功率器件包含合封的SiC-JFET管芯和Si-LDMOS管芯,所述 Si-LDMOS管芯的漏极与SiC-JFET管芯的源极相连,所述SiC-JFET管芯的漏极从背面引出,作为SiC功率器件成品的漏极引出,所述Si-LDMOS管芯的栅极引出作为SiC功率器件成品的栅极引出,所述Si-LDMOS管芯的源极从背面引出,与SiC-JFET管芯的栅极相连并引出作为 SiC功率器件成品的源极引出。本实用新型提出了一种新封装结构,通过加大引线框架面积,将Si-LDMOS管芯焊接在框架上,相应PIN脚直接引出,最大程度降低封装的共源极寄生电感。

在一优选实施例中,所述SiC功率器件包括第一基板和第二基板,所述Si-LDMOS管芯直接固定于所述第一基板上,所述SiC-JFET管芯通过所述第二基板固定于所述第一基板上,所述Si-LDMOS管芯的漏极与SiC-JFET管芯的源极相连,所述SiC-JFET管芯的漏极从背面引出,作为SiC功率器件的漏极引出,所述Si-LDMOS管芯的栅极引出作为SiC功率器件的栅极引出,所述SiC-JFET管芯的栅极通过第一基板与Si-LDMOS管芯的源极相连,所述Si-LDMOS管芯的源极从背面引出到第一基板作为SiC功率器件的源极引出。

在一优选实施例中,所述Si-LDMOS管芯的漏极与SiC-JFET管芯的源极之间、所述SiC-JFET管芯的栅极与所述第一基板之间通过连接件相连,以及所述Si-LDMOS管芯的栅极以及所述SiC-JFET管芯的漏极通过连接件引出,所述Si-LDMOS管芯的源极通过与第一基板相连的引线框架引出。

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