[实用新型]一种自动化设备有效
| 申请号: | 202121677136.8 | 申请日: | 2021-07-22 |
| 公开(公告)号: | CN215404505U | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
| 发明(设计)人: | 杨诗锋;彭中业;李日天 | 申请(专利权)人: | 中山凯旋真空科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 孙宝海;阚梓瑄 |
| 地址: | 528478 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 自动化 设备 | ||
本实用新型提供一种自动化设备,包括工艺腔、工艺电源柜、真空机组、系统柜、配电柜、操作柜以及桥架。其中,系统柜和工艺电源柜分别设置在真空机组左右两侧,操作柜与工艺电源柜位于真空机组同一侧,而工艺腔和配电柜真空机组的前后两侧。工艺腔、工艺电源柜、真空机组、系统柜、配电柜、以及操作柜之间通过线管连接工作。最后,再将桥架围绕真空机组设置,桥架用于承载线管。通过将系统各部分进行合理的规划,再利用桥架合理地排布及收纳各管路的连接,使得该自动化设备能大大减少占地面积进而便于搬运,且各部分之间的连接简单美观,大大提高设备的安全性能。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜领域,特别涉及一种自动化设备。
背景技术
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜工艺,可以包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延及PLD激光溅射沉积等多种形式。目前在实际应用中,真空镀膜主要可以分为蒸发镀膜和溅射镀膜。
真空镀膜设备是制作真空条件应用最为广泛的真空设备。真空镀膜设备一般包括工艺腔室、真空机组,还包括水气路机组和电路机组等辅助系统。在传统设备中,由于整个设备所涉及的辅助系统较多,设备的管路较多,布设较为复杂,并容易导致设备体积过大,不便于维修和搬运。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种自动化设备,以解决现有技术中的真空镀膜设备涉及的较多的辅助系统,设备的管路较多,布设较为复杂,并容易导致设备体积过大,不便于维修和搬运的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
一种自动化设备,其特征在于,包括:工艺腔、真空机组、工艺电源柜、系统柜、配电柜、操作柜及桥架,所述系统柜与所述工艺电源柜分别设于所述真空机组的左右两侧,所述操作柜与所述工艺柜位于所述真空机组的同侧,所述工艺腔及所述配电柜分别设于所述真空机组的前后两侧,所述工艺腔、真空机组、工艺电源柜、系统柜、配电柜及操作柜之间通过线管连接;
所述桥架围绕所述真空机组设置,所述桥架用于承载所述线管。
可选地,所述系统柜内装有冷却系统以及气控系统;所述冷却系统通过冷却管路与所述工艺腔连接,用于对所述工艺腔冷却,所述气控系统通过气管与所述工艺腔相连接。
可选地,所述配电柜包括强电控制电源柜和弱电控制电源柜,所述强电控制电源柜设于所述工艺电源柜的前侧,所述弱电电源柜设于所述系统柜的前侧;所述强电控制电源柜与所述工艺电源柜以及所述真空机组电连接;所述弱电控制电源柜与所述冷却系统以及所述气控系统电连接。
可选地,所述弱电控制电源柜的柜体开设有设有进水口和出水口,所述冷却系统通过进水管与所述进水口连通,所述冷却系统通过出水管与所述出水口连通。
可选地,所述系统柜、所述弱电控制电源柜、所述强电控制电源柜以及所述工艺电源柜的柜体上均设置有散热口。
可选地,所述桥架靠近所述工艺电源柜、所述系统柜、所述配电柜以及所述操作柜的顶部设置。
可选地,所述工艺腔为真空镀膜腔。
可选地,所述真空机组为多台,多台真空机组并列设置。
可选地,所述工艺电源柜可以为多个,并列排布于所述真空机组的一侧。
可选地,所述强电控制电源柜与所述弱电控制电源柜之间设置有通道,所述通道使所述真空机组与外界连通。
由上述技术方案可知,本实用新型实施例至少具有如下优点和积极效果:
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