[实用新型]一种大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统有效
申请号: | 202121644002.6 | 申请日: | 2021-07-20 |
公开(公告)号: | CN215598336U | 公开(公告)日: | 2022-01-21 |
发明(设计)人: | 周广;张梦然;董晓浩;王劼 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海应用物理研究所 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B9/02 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 杨怡清 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 射线 反射 干涉 拼接 测量 系统 | ||
1.一种大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,包括一减振平台,所述减振平台上安装有第一基座、移动装置和第二基座,所述第一基座的上方固定有干涉仪,所述移动装置包括安装在位移导轨上的多自由度机械运动平台,所述多自由度机械运动平台上方固定有被测光学镜和光学反射镜,所述第二基座的上方固定有自准直仪,且所述干涉仪、所述多自由度机械运动平台和所述自准直仪均与一控制终端通信连接。
2.根据权利要求1所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述干涉仪设置为将发射出的相干光垂直照射到所述被测光学镜的表面。
3.根据权利要求1所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述多自由度机械运动平台为四自由度机械运动平台。
4.根据权利要求2所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述多自由度机械运动平台包括自下而上依次排布的水平方向位移平台、竖直方向旋转平台、竖直方向位移平台以及水平方向旋转平台。
5.根据权利要求4所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述水平方向位移平台和所述竖直方向位移平台的分辨率为0.1μm。
6.根据权利要求4所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述竖直方向旋转平台和所述水平方向旋转平台的分辨率为0.1μrad。
7.根据权利要求4所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述水平方向位移平台和所述竖直方向位移平台设置为控制所述被测光学镜在垂直于所述相干光的入射方向的平面内运动。
8.根据权利要求4所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述竖直方向旋转平台和所述水平方向旋转平台设置为控制所述被测光学镜所在平面与所述相干光的入射方向的夹角。
9.根据权利要求1所述的大尺寸X射线反射镜干涉拼接测量系统,其特征在于,所述自准直仪设置为将发射出的测量光照射至所述光学反射镜。
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