[实用新型]一种低温物理气相沉积装置

说明书

本实用新型公开了一种低温物理气相沉积装置，包括底座、活动块、蒸镀箱、真空罩和空心块，底座顶端的两侧皆固定连接有立板，立板的顶端固定连接有顶板，立板底端一侧的中间位置活动连接有螺旋杆，螺旋杆的一侧安装有电机，活动块顶端的中间位置设置有放置台，活动块的顶端活动连接有蒸镀箱，顶板顶端的两侧皆固定连接有空心块，真空罩外部一侧的中间位置安装有控制面板。本实用新型通过在螺旋杆的外部活动连接的活动块，螺旋杆的转动可以使得活动块带动蒸镀箱在螺旋杆上移动，从而使蒸镀箱内部蒸发物气体可以任意调节工作位置，使得可以均匀的进行蒸发物沉积，且可以进行局部位置的蒸镀作业。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积装置技术领域，具体为一种低温物理气相沉积装置。

背景技术

物理气相沉积是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外，还包括近30多年来蓬勃发展起来的各种离子束沉积，离子镀和离子束辅助沉积技术，各种沉积技术的不同点主要表现为在上述三个环节中能源供给方式不同，同一气相转变的机制不同，气粒子形态不同，气相粒子荷能大小不同，气相粒子在输运过程中能量补给的方式及粒子形态转变不同，镀料粒子与反应气体的反应活性不同，以及沉积成膜的基体表面条件不同而已。

在物理气相沉积过程中会用到相应的气相沉积装置，随着社会的发展，物理气相沉积装置的种类也越来越多，已逐步满足了正常的使用需求，但现有的物理气相沉积装置，在使用过程中镀膜的蒸发物沉积不均且镀膜质量不佳，且不能进行局部范围的蒸镀作业。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种低温物理气相沉积装置，以解决上述背景技术中提出的不能进行局部范围的蒸镀作业的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种低温物理气相沉积装置，包括底座、活动块、蒸镀箱、真空罩和空心块，所述底座顶端的两侧皆固定连接有立板，所述立板的顶端固定连接有顶板，所述立板底端一侧的中间位置活动连接有螺旋杆，所述螺旋杆的一侧安装有电机，所述立板底端的两侧皆固定连接有导向杆，所述螺旋杆的外部活动连接有活动块，所述活动块顶端的中间位置设置有放置台，所述活动块的顶端活动连接有蒸镀箱，所述顶板顶端的两侧皆固定连接有空心块，所述底座的顶端活动连接有真空罩，所述真空罩外部一侧的中间位置安装有气泵，所述气泵的顶端固定连接有导管，所述真空罩外部一侧的中间位置安装有控制面板。

优选的，所述活动块内部的中间位置固定连接有螺旋套，所述活动块内部的顶端设置有放置槽。

优选的，所述螺旋套的内部设置有内螺纹，所述螺旋杆的外部设置有与螺旋套内螺纹匹配的外螺纹。

优选的，所述放置槽的两侧皆设置有竖向槽，所述竖向槽底端的一侧设置有横向槽，蒸镀箱可以带动固定块卡入竖向槽内部，然后再使固定块滑入横向槽内部，从而实现蒸镀箱的固定。

优选的，所述蒸镀箱的顶端固定连接有导流盘，所述蒸镀箱内部的两侧皆安装有电热丝。

优选的，所述蒸镀箱外部底端的两侧皆固定连接有固定块，所述固定块的外径大小与竖向槽和横向槽的内径大小相匹配。

优选的，所述空心块内部的底端固定连接有弹簧，所述弹簧的顶端滑动连接有滑动块。

优选的，所述滑动块的底端固定连接有支杆，所述支杆底端的一侧固定连接有压板。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)该种低温物理气相沉积装置，通过在螺旋杆的外部活动连接的活动块，螺旋杆的转动可以使得活动块带动蒸镀箱在螺旋杆上移动，从而使蒸镀箱内部蒸发物气体可以任意调节工作位置，使得可以均匀的进行蒸发物沉积，且可以进行局部位置的蒸镀作业。