[实用新型]一种物理气相沉积的升降机构有效
申请号: | 202121582736.6 | 申请日: | 2021-07-12 |
公开(公告)号: | CN215251156U | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 朱卫刚 | 申请(专利权)人: | 株洲科汇钛力新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/22 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 肖宇扬 |
地址: | 412000 湖南省株洲市天*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 物理 沉积 升降 机构 | ||
本实用新型公开了一种物理气相沉积的升降机构,包括气相沉积箱、伺服电机、转轴、安全门和靶材料,气相沉积箱的外壁上安装有安全门,安全门一侧的气相沉积箱内部安装有靶材料,靶材料下方的气相沉积箱内部安装有两组电磁场,电磁场下方的气相沉积箱内部设置有底座,且底座上方的气相沉积箱内部设有升降板,升降板的内部安装有上限位架,且上限位架下方的底座内部设有下限位架,下限位架一侧的底座顶端安装有主摆臂,且主摆臂的顶端延伸至上限位架的内部。本实用新型不仅实现了物理气相沉积的升降机构稳定的驱动,提高了升降机构运行时的稳定性,而且方便了物料进行快速的装夹固定。
技术领域
本实用新型涉及升降机构技术领域,具体为一种物理气相沉积的升降机构。
背景技术
物理气相沉积是在真空条件下,利用蒸发或溅射等物理形式,把固体的材料转化为原子、分子或者离子态的气相物质,然后使这些携带能量的蒸发粒子沉积到基体或零件的表面,以形成膜层的膜制备方法,物理气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀,真空蒸镀:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀,溅射:溅射是利用高速正离子轰击某一靶材,使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉积的过程,随着高科技及新兴工业发展,物理气相沉积技术出现了不少新的先进的亮点,如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术,大型矩形长弧靶和溅射靶、非平衡磁控溅射靶、孪生靶技术、带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术、条状纤维织物卷绕镀层技术等,使用的镀层成套设备向计算机全自动大型化工业规模方向发展,现有的物理气相沉积的升降机构在使用时仍有一些不足有待改进。
现今市场上的此类升降机构种类繁多,基本可以满足人们的使用需求,但是依然存在一定的问题,现有的此类升降机构在使用时一般不便于升降机构稳定的驱动,大大的影响了升降机构使用时的稳定性,从而给人们的使用带来了很大的困扰。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种物理气相沉积的升降机构,以解决上述背景技术中提出升降机构不便于升降机构稳定的驱动的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种物理气相沉积的升降机构,包括气相沉积箱、伺服电机、转轴、安全门和靶材料,所述气相沉积箱的外壁上安装有安全门,所述安全门一侧的气相沉积箱内部安装有靶材料,所述靶材料下方的气相沉积箱内部安装有两组电磁场,所述电磁场下方的气相沉积箱内部设置有底座,且底座上方的气相沉积箱内部设有升降板,所述升降板的内部安装有上限位架,且上限位架下方的底座内部设有下限位架,所述下限位架一侧的底座顶端安装有主摆臂,且主摆臂的顶端延伸至上限位架的内部,所述主摆臂的外壁上安装有铰接轴,所述主摆臂一侧的升降板底端安装有辅摆臂,所述主摆臂的外壁上安装有横梁,所述横梁的外壁上安装有支撑架,且支撑架的外壁上安装有气缸,所述气缸的底端设有驱动杆,安全门的外壁上安装有控制面板。
优选的,所述安全门上方的气相沉积箱内部安装有螺纹杆,所述螺纹杆一侧的气相沉积箱内部安装有伺服电机,且伺服电机的输出端通过联轴器安装有转轴,实现了安全门便捷的驱动。
优选的,所述螺纹杆的表面套装有两组螺纹套,且螺纹套的底端与安全门固定连接。
优选的,所述升降板的顶端安装有旋转箱,所述旋转箱顶端的中心位置处安装有载物台。
优选的,所述旋转箱的内部安装有齿轮,且齿轮的外壁上安装有旋转架,所述旋转架一侧的旋转箱内部设有两组齿条,实现了升降机构对物料多方向的驱动。
优选的,所述齿条一侧的旋转箱内部安装有电动杆,所述电动杆的外壁上安装有推杆,所述推杆的外壁上安装有转接架。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该升降机构不仅实现了物理气相沉积的升降机构稳定的驱动,提高了升降机构运行时的稳定性,而且方便了物料进行快速的装夹固定;
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