[实用新型]一种基板清洗输送装置

说明书

本实用新型公开了一种基板清洗输送装置，包括机架、基片吊装工装、桁架机械手，所述机架的左右两侧分别设置有出料位、进料位，所述机架的内部上方设置有二维运输机构，且内部下方设置有清洗机构，所述二维运输机构包括X轴运动机构、Z轴运动机构，所述X轴运动机构上设置有Z轴运动机构，所述Z轴运动机构上设置有桁架机械手，所述桁架机械手对应基片吊装工装设置有夹爪机构，所述基片吊装工装为镂空结构。本实用新型通过二维运输机构驱动桁架机械手将装有基板的基片吊装工装导入清洗机构中进行清洗，实现了自动化的进料、清洗、出料，有效提高了工作效率，同时保证了操作的安全性，具有较好的实用性。

技术领域

本实用新型属于基板清洗设备的技术领域，具体涉及一种基板清洗输送装置。

背景技术

掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在工业生产中，掩模版(MASK)在使用一段时间后表面会沉积金属层及油污、杂质等，影响了后续的加工程序，使用性能降低。因此，需要定期对掩模版基板进行清洗。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基板清洗输送装置，通过二维运输机构驱动桁架机械手将装有基板的基片吊装工装导入清洗机构中进行清洗，实现自动化输送清洗，有效提高工作效率，同时保证操作的安全性，具有较好的实用性。

本实用新型主要通过以下技术方案实现：

一种基板清洗输送装置，包括机架、基片吊装工装、桁架机械手，所述机架的左右两侧分别设置有出料位、进料位，所述机架的内部上方设置有二维运输机构，且内部下方设置有清洗机构，所述二维运输机构包括X轴运动机构、Z轴运动机构，所述X轴运动机构上设置有Z轴运动机构，所述Z轴运动机构上设置有桁架机械手，所述桁架机械手对应基片吊装工装设置有夹爪机构，所述基片吊装工装为镂空结构。

本实用新型在使用过程中，首先将基板装入基片吊装工装内，然后放入进料位，所述X轴运动机构驱动桁架机械手沿X方向移动至进料位的上方，然后通过Z轴运动机构驱动桁架机械手下降至设定位置，然后桁架机械手通过驱动夹爪机构抓取基片吊装工装，后续在二维运输机构的驱动下放入清洗机构中浸泡清洗，清洗完成后将基片吊装工装输送至出料位处，所述桁架机械手通过驱动夹爪机构松开基片吊装工装，以方便进行后续的运输操作。本实用新型实现了自动化的进料、清洗、出料，有效提高了工作效率，同时保证了操作的安全性，具有较好的实用性。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述基片吊装工装包括镂空的架体以及引导块、接触导块，所述架体内部设置有卡槽，且卡槽的一端设置有进出料口，所述进出料口的两端分别设置有引导块，所述卡槽的内部沿周向设置有若干个接触导块。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述卡槽的内部的两侧以及底侧分别沿长度方向设置有若干个接触导块；所述架体的底部两端分别设置有支撑垫块。

本实用新型在使用过程中，先将基板通过进出料口插入卡槽内，所述引导块用于对进出基板进行导向及定位，基板的两侧与架体之间沿周向设置有若干个接触导块，所述接触导块与基板之间预留1mm的间隙，避免在移动过程中出现较大的晃动。所述引导块、接触导块、支撑垫块分别采用耐腐蚀材料制备得到，例如聚四氟乙烯材料。

为了更好地实现本实用新型，进一步地，所述夹爪机构包括夹爪气缸和夹爪手指，所述夹爪气缸的两侧分别设置有夹爪手指，所述夹爪手指的工作端设置有定位槽，所述基片吊装工装对应设置有夹持定位端。