[实用新型]一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备

权利要求书

1.一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备，包括装置本体(1)，其特征在于：所述装置本体(1)顶部的正中固定连接有水箱(2)，所述水箱(2)顶部的正中开设有管槽(3)，所述管槽(3)的底部设置第一齿轮(4)，所述第一齿轮(4)底部的正中固定连接有储水块(5)，所述储水块(5)的表面开设有第一孔槽(6)，所述第一孔槽(6)顶部的正面和背面对称设置有第二齿轮(7)，两个所述第二齿轮(7)的正中对称开设有圆槽(8)，两个所述圆槽(8)的右侧设置有第三齿轮(9)，所述第三齿轮(9)顶部的正中固定连接有转动轴(10)，所述转动轴(10)的底部通过联轴器转动连接有伺服电机(11)，所述伺服电机(11)底部的左右两侧对称设置有加热棒(12)，两个所述加热棒(12)的顶部固定连接有限位块(13)，两个所述限位块(13)相对的一侧设置有装料板(14)，所述装料板(14)顶部的左右两侧对称开设有放置槽(15)，所述放置槽(15)内腔的底部开设有第二孔槽(16)，所述第二孔槽(16)的底部设置有支撑柱(17)。

2.根据权利要求1所述的一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备，其特征在于：所述第一齿轮(4)的顶部活动连接在装置本体(1)内腔顶部的正中，所诉第一齿轮(4)的正中和水箱(2)的内腔相通，所述储水块(5)和第一齿轮(4)内腔的正中相通，所述第一孔槽(6)有若干个，每个所述第一孔槽(6)均匀开始在储水块(5)的表面。

3.根据权利要求2所述的一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备，其特征在于：两个所述第二齿轮(7)相对的一侧对称贴合在第一齿轮(4)的正面和背面，所述第二齿轮(7)和第一齿轮(4)相啮合。

4.根据权利要求3所述的一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备，其特征在于：所述第三齿轮(9)的左侧贴合在第一齿轮(4)的右侧，所述第三齿轮(9)和第一齿轮(4)相啮合，所述伺服电机(11)的顶部固定连接在装置本体(1)内腔顶部的右侧。

5.根据权利要求4所述的一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备，其特征在于：两个所述加热棒(12)对称设置在装置本体(1)内腔的左右两侧，所述加热棒(12)和圆槽(8)的尺寸相适配，两个所述加热棒(12)的顶部对称插接在圆槽(8)的内腔中，搜书限位块(13)比圆槽(8)大，两个所述限位块(13)的底部对称贴合在圆槽(8)的顶部。

6.根据权利要求5所述的一种可对再生圆晶片预处理的清洗干燥一体设备，其特征在于：所述装料板(14)有若干个，所述支撑柱(17)有若干个，每个所述装料板(14)相对一侧的正中对称贴合在每个支撑柱(17)的顶部和底部，底部所述支撑柱(17)的底部固定连接在装置本体(1)内腔底部的正中。