[实用新型]一种晶圆片表面清洗装置

权利要求书

1.一种晶圆片表面清洗装置，包括顶板(1)、底箱(4)、导流管(10)和盒体(11)，其特征在于：所述底箱(4)的内部底端中间处固定有内置箱(6)，所述底箱(4)的内部底端一侧固定有泵体(8)，所述盒体(11)固定在底箱(4)的上端面中间处，且盒体(11)的上端面通过滑轨转动安装有转动环(12)，所述转动环(12)的下端开口处固定有支撑架(21)，所述底箱(4)的上端面外侧固定有外檐(3)，所述底箱(4)的上端面两侧均开设有回流口(5)，且回流口(5)连接底箱(4)内部顶端，所述外檐(3)的上端面固定有壳体(2)，且壳体(2)的上端固定在顶板(1)的下端面，所述顶板(1)的下端面中间处固定有分液管(15)，且分液管(15)的下端面等距分布有雾化喷头(13)，所述顶板(1)的上端面中间处固定有加压箱(14)，所述导流管(10)位于壳体(2)的一侧。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面清洗装置，其特征在于：所述底箱(4)的下端面外侧固定有脚垫(9)，所述脚垫(9)共设有四个，且四个脚垫(9)呈阵列分布，所述脚垫(9)的下端固定有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面清洗装置，其特征在于：所述内置箱(6)的内部固定有驱动箱(7)，且驱动箱(7)的驱动轴与转动环(12)内支撑架(21)的中间处相连接。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面清洗装置，其特征在于：所述支撑架(21)的间隙内固定有网格(20)，所述转动环(12)的底端开口处与盒体(11)的上端开口处相对应，所述盒体(11)的两侧开口与回流口(5)相对应。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面清洗装置，其特征在于：所述回流口(5)位于外檐(3)和盒体(11)之间，所述外檐(3)的内侧呈倾斜设计，且外檐(3)的高度与盒体(11)高度相同，所述盒体(11)内阵列分布有支撑柱。

6.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面清洗装置，其特征在于：所述导流管(10)的一端贯穿加压箱(14)内侧后与分液管(15)相连接，且导流管(10)背离加压箱(14)的一端贯穿底箱(4)后与泵体(8)相连接。