[实用新型]一种用于晶片加工工艺的吸附垫有效

专利信息
申请号: 202121498676.X 申请日: 2021-07-02
公开(公告)号: CN215148003U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 贺越腾 申请(专利权)人: 天津微科光电科技有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/047;B24B41/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300452 天津市滨海新区自贸易试*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 晶片 加工 工艺 吸附
【权利要求书】:

1.一种用于晶片加工工艺的吸附垫,包括加工转盘(1),其特征在于:所述加工转盘(1)的底部装设有吸附垫主体(2),所述吸附垫主体(2)的上层装设有粘附层(3),所述粘附层(3)的顶部与加工转盘(1)的底部相连接,所述粘附层(3)的底部连接有磁力吸附层(4),所述磁力吸附层(4)的底部连接有导流层(5),所述导流层(5)的底部连接有抛光吸附层(6),所述吸附垫主体(2)的左右两端的上部均固定装设有连接软管(7),所述连接软管(7)的另一端均连接有装夹头(8),且加工转盘(1)的顶部两侧均固定安装有装夹槽(9)。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶片加工工艺的吸附垫,其特征在于:所述导流层(5)的表面开设有圆形导流孔(51),所述圆形导流孔(51)的数量为6-9个,且均均匀开设于导流层(5)的表面,所述圆形导流孔(51)中间开设有十字导流槽(52)。

3.根据权利要求1所述的一种用于晶片加工工艺的吸附垫,其特征在于:所述抛光吸附层(6)的相对面均装设有抛光吸附绒毛(61)。

4.根据权利要求1所述的一种用于晶片加工工艺的吸附垫,其特征在于:所述装夹头(8)的底部中间位置固定安装有半圆形卡扣(81),所述装夹头(8)的底部两侧均固定装设有锥形卡扣(82),且锥形卡扣(82)的两侧装设有卡紧倒刺,所述装夹槽(9)的内部与半圆形卡扣(81)和锥形卡扣(82)对应位置开设有半圆形卡槽(91)和锥形卡槽(92)。

5.根据权利要求4所述的一种用于晶片加工工艺的吸附垫,其特征在于:所述半圆形卡槽(91)的上部开口处设置有锥形开口,且半圆形卡扣(81)和锥形卡扣(82)均为橡胶材质。

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