[实用新型]一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备

说明书

本实用新型公开了一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备，所述中转装置包括：平台，所述平台形成有第一开口，所述第一开口用于利用真空将硅片吸附于所述平台，所述平台还形成有多个第二开口，所述多个第二开口用于朝向所述平台的外侧喷射清洗液；设置在所述平台外围的筒状罩体，所述筒状罩体构造成能够将所述抛光设备的抛光头围绕，所述筒状罩体设置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于朝向所述筒状罩体的径向内侧喷射清洗液。

技术领域

本实用新型涉及硅片抛光技术领域，尤其涉及一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备。

背景技术

对硅片进行抛光是硅片生产过程中的重要工序，通常，利用硅片抛光设备完成对硅片的抛光作业。

硅片抛光设备通常包括抛光头和抛光垫，抛光头用于吸附着硅片并相对于抛光垫产生相对运动，由此实现硅片的抛光。在此过程中，抛光液被引入至抛光垫与硅片的被抛光表面之间，而由于抛光头以及硅片相对于抛光垫的运动，抛光液不可避免地会溅射至抛光头，并在长期积累后产生结晶。为了避免结晶脱落对硅片产生划伤以及对抛光质量产生不利影响，每个抛光头上通常都安装有两根清洗管路，清洗液经由清洗管路的出口以股状的方式流出至抛光头从而实现将附着于抛光头的抛光液进行及时清除以避免结晶。然而，由于清洗液呈股状，因此无法将整个抛光头完全清洗，因此清洗效果较差。

硅片抛光设备还需要对待抛光的硅片进行装载以及对已抛光的硅片进行卸载，通常，这两种作业分别在抛光设备中的用于装载硅片的第一工位和用于卸载硅片的第二工位中完成。具体地：在第一工位中，设置有聚乙烯醇（Polyvinyl Alcohol，PVA）海绵，纯水持续地供应至PVA海绵使得纯水在PVA海绵中保持溢流，以保证海绵表面湿润，待抛光的硅片被置于PVA 海绵上，抛光头压在硅片上将硅片吸附，然而，这种作业方式导致纯水的消耗量极大，生产成本较高；在第二工位中，设置有盘体，纯水也持续地供应至盘体使得纯水在盘体中保持溢流，已抛光的硅片通过抛光头被卸载在该盘体中，因此这种作业方式同样导致纯水的消耗量极大，生产成本较高，而且，已抛光的硅片沾附的抛光液随硅片一起进入到盘体中，盘体中的纯水始终存在有抛光液，难以保证硅片表面污染满足要求。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型实施例期望提供一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备，能够实现对整个抛光头进行完全的清洗，能够在单个工位中同时实现硅片的装载以及卸载，不需要持续地供应纯水以节约成本，并且能够确保已抛光的硅片在离开抛光设备时处于洁净状态。

本实用新型的技术方案是这样实现的：

第一方面，本实用新型实施例提供了一种硅片抛光设备中使用的中转装置，所述中转装置包括：

平台，所述平台形成有第一开口，所述第一开口用于利用真空将硅片吸附于所述平台，所述平台还形成有多个第二开口，所述多个第二开口用于朝向所述平台的外侧喷射清洗液；

设置在所述平台外围的筒状罩体，所述筒状罩体构造成能够将所述抛光设备的抛光头围绕，所述筒状罩体设置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于朝向所述筒状罩体的径向内侧喷射清洗液。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种硅片抛光设备，所述硅片抛光设备包括根据第一方面所述的中转装置。

本实用新型实施例提供了一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备，通过平台的所述多个第二开口喷射的清洗液以及设置于筒状罩体的所述多个喷嘴喷射的清洗液对抛光头进行清洗，因此能够实现对整个抛光头进行完全的清洗，在中转装置中同时实现了硅片的装载以及卸载，不需要持续地供应例如纯水的清洗液而是在需要时喷射清洗液，因此能够节约成本，在已抛光的硅片吸附于抛光头时可以通过平台的所述多个第二开口喷射的清洗液对硅片的正面进行清洗，在已抛光的硅片吸附于平台时可以通过设置于筒状罩体的所述多个喷嘴射的清洗液对硅片的背面进行清洗，因此能够确保已抛光的硅片在离开抛光设备时处于洁净状态。

附图说明