[实用新型]一种硅片抛光设备中使用的中转装置及硅片抛光设备

权利要求书

1.一种硅片抛光设备中使用的中转装置，其特征在于，所述中转装置包括：

平台，所述平台形成有第一开口，所述第一开口用于利用真空将硅片吸附于所述平台，所述平台还形成有多个第二开口，所述多个第二开口用于朝向所述平台的外侧喷射清洗液；

设置在所述平台外围的筒状罩体，所述筒状罩体构造成能够将所述抛光设备的抛光头围绕，所述筒状罩体设置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于朝向所述筒状罩体的径向内侧喷射清洗液。

2.根据权利要求1所述的中转装置，其特征在于，所述中转装置还包括第一驱动器，所述第一驱动器用于驱动所述平台升起和降下以相应地朝向和远离所述抛光设备的抛光头移动。

3.根据权利要求1所述的中转装置，其特征在于，所述中转装置还包括第二驱动器，所述第二驱动器用于驱动所述筒状罩体升起和降下以相应地朝向和远离所述抛光设备的抛光头移动。

4.根据权利要求1所述的中转装置，其特征在于，所述筒状罩体还设置有三个夹爪，所述三个夹爪构造成能够朝向所述筒状罩体的径向内侧移动以对承载于所述平台上的所述硅片进行卡夹，并且同时迫使所述硅片在所述平台上移动至目标位置。

5.根据权利要求1所述的中转装置，其特征在于，所述平台包括本体和贴附在所述本体上并且用于与所述硅片接触的薄膜。

6.根据权利要求4所述的中转装置，其特征在于，所述三个夹爪沿着所述筒状罩体的周向均匀分布。

7.根据权利要求1所述的中转装置，其特征在于，所述多个第二开口中的每一个以及所述多个喷嘴中的每一个以散射的方式喷射所述清洗液。

8.根据权利要求5所述的中转装置，其特征在于，所述本体由陶瓷制成。

9.根据权利要求5所述的中转装置，其特征在于，所述薄膜由发泡聚氨酯制成。

10.一种硅片抛光设备，其特征在于，所述硅片抛光设备包括根据权利要求1至9中任一项所述的中转装置。